高分子臭氧化

由臭氧引起的高分子化學反應。臭氧是化學活性極高的物質,較分子氧更容易與含有雙鍵的高分子發生化學反應。大氣中臭氧濃度雖然很低,但是,不飽和高分子遇臭氧易被氧化,產生與應力方向相垂直的裂紋,使高分子性能變壞。光能加劇臭氧化作用,故日光下的高分子化合物比黑暗中的更易臭氧化。

基本介紹

  • 中文名:高分子臭氧化
  • 起因:臭氧引起
  • 反應:高分子化學反應
  • 結果:破壞臭氧層
高分子臭氧化
臭氧引起的高分子化學反應。臭氧是化學活性極高的物質,較分子氧更容易與含有雙鍵的高分子發生化學反應。大氣中臭氧濃度雖然很低,但是,不飽和高分子遇臭氧易被氧化,產生與應力方向相垂直的裂紋,使高分子性能變壞。光能加劇臭氧化作用,故日光下的高分子化合物比黑暗中的更易臭氧化。
臭氧與不飽和高分子反應時,首先生成不穩定的臭氧化物(a),隨後又重排為異臭氧化合物(b)。這種重排,可以發生鏈斷裂,生成醛或酮,形成裂紋。高分子的臭氧化是嚴重的老化現象之一,可採用物理方法或化學方法防止(見橡皮龜裂)。
氟里昂破壞了臭氧層氟里昂破壞了臭氧層
高分子臭氧化高分子臭氧化
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