飽水帶洞穴

飽水帶洞穴是地下水面以下的洞穴，在地下水面以下。有深淺部之分。最上部為淺飽水帶，即地下水面帶，形成的洞穴叫淺飽水帶洞穴，也稱地下水面洞穴。那裡的地下水流路最短，水的溶蝕能力強，溶洞發育較快，規模較大，個體間一般缺乏聯繫，多成水平溶洞。

基本介紹

• 中文名：飽水帶洞穴
• 定義：地下水面以下的洞穴
• 位於：地下水面以下
• 最上部為：淺飽水帶

飽水帶洞穴，地下水面以下的洞穴。飽水帶位於地下水面以下，有深淺部之分。最上部為淺飽水帶，即地下水面帶，形成的洞穴叫淺飽水帶洞穴，也稱地下水面洞穴。那裡的地下水流路最短，水的溶蝕能力強，溶洞發育較快，規模較大，個體間一般缺乏聯繫，多成水平溶洞。當侵蝕基準面下降、地殼抬升時，地下河便變成高懸於地下水面以上的乾溶洞。如地殼多次抬升，就可形成多層水平乾溶洞。這種近於水平的溶洞層，有時可與附近河流階地的高度和年代對比；有的在溶洞內形成階地。在深飽水帶內形成的洞穴，稱為深飽水帶洞穴。此帶溶蝕作用緩慢，形成的洞穴規模小、不規則。