《電漿波導中光場感應電離軟X射線雷射研究》是依託哈爾濱工業大學，由夏元欽擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：電漿波導中光場感應電離軟X射線雷射研究
- 依託單位：哈爾濱工業大學
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：夏元欽
- 批准號：10774033
- 申請代碼：A2202
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2008-01-01 至 2011-12-31
- 支持經費：30（萬元）
項目摘要
研究意義：利用電漿波導實現光場感應電離XUV雷射放大，在泵浦雷射到達之前，波導中氣體介質預先被電離形成低價的電漿，可以降低產生X射線雷射的泵浦雷射的閾值，從而提高由於自散焦而降低的有效雷射功率密度。由於產生的大量電子被束縛在電漿波導內，降低X光信號色散影響，大大提高雷射增益長度，是一種實現台式X射線雷射新的泵浦手段。研究內容：通過光場感應電離原子參數和電離參數計算及毛細管放電產生的電漿狀態的理論模擬，研究飛秒雷射聚焦到毛細管放電產生的電漿特性以及X光雷射產生機理；獲得不同雷射泵浦和毛細管放電條件下X射線輸出特性。
