《電漿射流裝置及殺菌方法》是桂林電子科技大學於2021年1月26日申請的專利，該專利公布號為CN112915230A，專利公布日為2021年6月8日，發明人是李華、李明磊、賢躍飛、楊象添、朱鴻成、張雨晗。
基本介紹
- 中文名：電漿射流裝置及殺菌方法
- 申請公布號 ：CN112915230A
- 申請公布日 ：2021.06.08
- 申請號 ：2021101025970
- 申請日：2021.01.26
- 申請人：桂林電子科技大學
- 地址：541004廣西壯族自治區桂林市七星區金雞路1號
- 發明人：李華; 李明磊; 賢躍飛; 楊象添; 朱鴻成; 張雨晗
- Int. Cl.：A61L2/14(2006.01)I; A61L2/26(2006.01)I
- 專利代理機構：北京東方億思智慧財產權代理有限責任公司11258
- 代理人：李傑
專利摘要
本申請提供了一種電漿射流裝置及殺菌方法，該射流裝置包括：支架、第一驅動組件和安裝座，所述支架包括相對設定的第一側和第二側，所述第一側用於放置待滅菌物體，所述第一驅動組件設定於所述第二側，並驅動所述安裝座旋轉，所述安裝座的旋轉平面朝向所述待滅菌物體；所述安裝座上設有第二驅動組件和噴射機構，所述第二驅動組件驅動所述噴射機構旋轉，且在旋轉過程中所述噴射機構的噴射端均朝向所述待滅菌物體，所述噴射機構的旋轉平面與所述安裝座的旋轉平面相交。該射流裝置無需設定多個噴射機構，利用可調節角度的單個噴射機構對待滅菌物體進行滅菌，滅菌面積大，均勻覆蓋待滅菌區域，無需對待滅菌物體進行反覆滅菌，降低了生產成本。
