《常溫大氣壓電漿射流及其滅菌機理的研究》是依託華中科技大學，由盧新培擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：常溫大氣壓電漿射流及其滅菌機理的研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：盧新培
- 依託單位：華中科技大學
- 批准號：10875048
- 申請代碼：A29
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2009-01-01 至 2011-12-31
- 支持經費：32（萬元）
中文摘要
大氣壓非平衡電漿(APNEP)技術在醫療衛生領域的套用近年來在國內外受到了人們的重視。這是由於它的電子溫度遠高於其氣體溫度，因此它具有較高的活性，同時又保持較低的氣體溫度。而APNEP射流將電漿產生在周圍的空氣中，這樣就使被處理的對象不受空間尺寸的限制，近幾年受到了人們格外的關注。本課題利用我們最新研製的一個APNEP射流裝置對引起牙髓疾病的主要致病菌的滅菌機理進行研究。通過對（1）放電參數[（脈衝直流的幅值、極性、脈寬、頻率）、千赫茲交流（幅值、頻率）]、工作氣體組份、流速，（2）該電漿射流所產生的紫外輻射強度、帶電粒子流量、各種活性粒子濃度，和（3）該電漿射流對引起牙髓疾病的主要致病菌的滅菌效果和機理，這三者之間的複雜關係進行系統地研究。從而對該電漿射流的滅菌機理有一個深入的了解。這對非平衡電漿技術在在整個醫療衛生領域的套用都具有重要的理論和套用價值。
