電沉積層織構

介紹

電沉積層織構，即電沉積層與基體的結晶取向關係。即在沉積層中相當數量的晶粒 表現出來的某種共同取向特徵，又稱擇優取向。在多品沉積 層中，每顆晶粒的空間方位可用它的晶軸與相對於巨觀基體 的參考坐標系坐標軸的夾角來表示。如果沉積層中各晶粒的 三根晶軸相對於參考坐標系呈隨機分布，這便是無序取向。 如果各晶粒的二根晶軸中有一根與參考坐標系有固定的關 系，則成為一維取向，即通常所指的織構。這根晶軸即稱為擇 優取向軸。有時擇優取向軸的數目不止一根，這就意味著沉 積層中有些晶粒是按某種關係相對於基體取向的，而另一些 晶粒是按另一種關係相對於基體取間的。改變鍍液組成、電 流密度,pH等都可能引起織構的變化。