《雷射對抗原理與套用》是2015年9月出版的圖書，作者是呂躍廣。
本書從雷射對抗概念出發，對雷射對抗技術的內涵、國內外發展現狀進行了綜述分析；聚焦雷射對抗領域涉及的主要關鍵技術，在深入分析雷射大氣傳輸特性的基礎上，結合作者多年的科研實踐，從雷射偵察與雷射干擾、反雷射偵察與反雷射干擾兩個對立方面、四個主要套用領域進行了分析研究，給出了其主要原理、關鍵技術及解決方案。
本書可供光電對抗和雷射技術領域相關工程技術人員參考，可以作為相關專業的教學參考書。
基本介紹
- 書名：雷射對抗原理與套用
- 作者：呂躍廣
- ISBN：978-7-118-10066-2
- 頁數：267
- 定價：76.00
- 出版時間：2015年9月
- 裝幀：平裝
- 開本：16
- 版次：1版1次
基本信息,目錄,
基本信息
書名：雷射對抗原理與套用
書號：978-7-118-10066-2
作者：呂躍廣
出版時間：2015年9月
譯者：
版次：1版1次
開本：16
裝幀：平裝
出版基金：
頁數：267
字數：358
中圖分類：TN977
叢書名：現代雷射技術及套用
定價76.00
目錄
第1章雷射對抗概論
1.1雷射對抗的概念和技術內涵
1.2雷射對抗技術的發展現狀
1.2.1雷射偵察與反雷射偵察
1.2.2雷射干擾技術
1.2.3雷射防禦技術
1.3雷射對抗技術的發展趨勢
參考文獻
第2章雷射在大氣中傳輸
2.1大氣的光衰減
2.1.1大氣層
2.1.2大氣的光吸收
2.1.3大氣的光散射
2.1.4雷射大氣衰減計算
2.2大氣湍流效應和非線性傳輸效應
2.2.1大氣湍流效應
2.2.2大氣湍流效應計算
2.2.3大氣非線性傳輸效應
2.2.4大氣對光束質量的影響
參考文獻
第3章雷射被動偵察告警技術
3.1概述
3.1.1雷射告警目的和要求
3.1.2雷射告警設備分類
3.2工作原理
3.2.1雷射告警設備工作原理
3.2.2信號探測
3.2.3技術性能分析
3.3重要單元技術與套用
3.3.1多元相關技術
3.3.2高精度方位分辨技術
3.3.3波長測量技術
3.3.4多元相關探測技術套用
參考文獻
第4章雷射主動偵察技術
4.1雷射主動偵察概述
4.1.1雷射主動偵察概念
4.1.2雷射主動偵察分類
4.2目標與背景
4.2.1目標特性
4.2.2背景特性
4.2.3雷射雷達截面
4.2.4雷射回波
4.3雷射直接偵察探測
4.3.1基本原理
4.3.2雷射主動偵察系統
4.3.3雷射輔助照明成像探測
4.4雷射相干偵察探測
4.4.1基本原理
4.4.2系統性能
參考文獻
第5章雷射無源干擾
5.1雷射衰減與遮蔽
5.1.1分類
5.1.2干擾原理
5.1.3煙幕材料及其參數測試
5.1.4干擾性能分析
5.2雷射假目標
5.2.1反射式假目標
5.2.2散射式假目標
5.3雷射隱身
5.3.1雷射隱身概念
5.3.2雷射隱身塗料
5.3.3超材料與雷射隱身
5.3.4雷射隱身結構
參考文獻
第6章雷射有源干擾
6.1毀傷式干擾
6.1.1雷射對材料毀傷
6.1.2破壞閾值
6.1.3雷射毀傷光電系統
6.2致盲式干擾
6.2.1雷射致盲
6.2.2雷射致眩
6.3迷茫式干擾
6.3.1飽和干擾
6.3.2散射干擾
6.4欺騙式干擾
6.4.1對雷射制導武器欺騙干擾
6.4.2對紅外製導武器的干擾
參考文獻
第7章雷射空間功率合成技術
7.1雷射非相干合成
7.1.1非相干合成的幾種實現方法
7.1.2脈衝雷射非相干合成技術
7.2雷射相控陣合成
7.2.1光學相控陣簡介
7.2.2雷射相控陣合成的基本原理
7.2.3雷射相控陣合成的軍事套用
7.3光學相控陣的實現方法
7.3.1光學相控陣的實現途徑
7.3.2光學相控陣結構的最佳化設計
參考文獻"
