《雷射場和電漿環境中的重粒子碰撞過程研究》是依託北京套用物理與計算數學研究所，由何斌擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：雷射場和電漿環境中的重粒子碰撞過程研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：何斌
- 依託單位：北京套用物理與計算數學研究所
- 負責人職稱：研究員
- 批准號：10574020
- 研究期限：2006-01-01 至 2008-12-31
- 申請代碼：A2101
- 支持經費：26（萬元）
項目摘要
重粒子碰撞廣泛存在於天體物理和磁約束電漿環境中，對於孤立的碰撞過程已開展過大量的研究工作。但在實際套用中（如天體物理，磁約束和慣性約束聚變等）往往是在外場或高密度電漿中發生的過程，而考慮外場或環境效應的重粒子碰撞過程卻研究得較少。本項目研究內容之一是圓偏振雷射場下的重粒子碰撞過程，著重於雷射場對碰撞電離和電荷轉移過程的截面的影響，此項研究一則可以加深對雷射與物質相互作用過程的深入了解，二則有助於利用雷射場控制重粒子碰撞過程，這對於雷射聚變、電漿加熱和快光學電子器件的發展有參考意義；本項目另一主要研究內容是高能質子及其它帶電粒子與金、鈹、碳、矽等元素的碰撞截面和能量損失，並考慮高溫高密電漿環境的影響，分析它們隨電漿溫度和密度的變化行為及產生這些變化的原因，這是一個很新的課題，它對於近年來美國人提出的一套用雷射產生高能質子進行快點火方案的精密研究有重要的參考意義。
