《雷射場中電子-原子碰撞的理論研究》是依託河南師範大學，由孫金鋒擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：雷射場中電子-原子碰撞的理論研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：孫金鋒
- 依託單位：河南師範大學
- 批准號：10574039
- 申請代碼：A2101
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2006-01-01 至 2008-12-31
- 支持經費：26（萬元）
項目摘要
雷射場中電子－原子碰撞研究是揭示微觀物質結構、建立和檢驗物理理論和研究方法的基本手段，也是材料科學、電漿物理、熱核聚變等套用領域的重要基礎。雙色雷射場中的電子散射研究由於CPC效應而具有特殊的重要意義。與國外相比，我國在該領域的理論研究相對薄弱，實驗研究尚未開展。本項目的開展，可望在理論上有所突破，同時為實驗研究奠定基礎。我們將在無場散射電子-原子光學勢模型基礎上，提出適用於雷射場中原子的勢模型，並基於多階微擾理論，套用新的勢模型對單色雷射場中電子被He、Ne、Ar等惰性氣體原子散射的散射截面進行系統計算，進而擴展到單色雷射場中電子被鹼金屬和較重惰性靶原子散射的計算分析，得到較為完整的基本數據和理論體系。在對單色雷射場中電子-原子散射研究的基礎上，進一步研究雙色雷射場中電子被原子散射的研究，著重探索相位差對散射截面的影響。
