離子濺射儀

離子濺射儀是上海禾早儀器有限公司旗下產品。離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術開發研製成高科技產品,作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器,可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌,從而提高試樣的導電性和導熱性。該儀器為全閉環真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個感測器實時監控運行狀態,保證儀器安全穩定運行。自動磁控離子濺射儀採用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環境,高精度的濺射電源採用恆流控制來保證高精細的膜層質量。同時平面磁控測射陰極減少電漿對試樣表面的轟擊和熱效應,高性能的平面磁控濺射陰極可實現多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等),高精度的納米塗層為納米級別,可滿足現代分析實驗要求。

儀器簡介,儀器參數,儀器組成,儀器特點,使用方法,儀器安裝,性能指標,

儀器簡介

離子濺射儀是上海禾早儀器有限公司旗下產品,離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術開發研製成高科技產品,作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器,可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌,從而提高試樣的導電性和導熱性。該儀器為全閉環真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個感測器實時監控運行狀態,保證儀器安全穩定運行。自動磁控離子濺射儀採用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環境,高精度的濺射電源採用恆流控制來保證高精細的膜層質量。同時平面磁控測射陰極減少電漿對試樣表面的轟擊和熱效應,高性能的平面磁控濺射陰極可實現多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等),高精度的納米塗層為納米級別,可滿足現代分析實驗要求。
離子濺射儀
離子濺射儀

儀器參數

  1. 外形尺寸:530×300×320(mm)
  2. 工作電壓:100-250VAC 50/60Hz
  3. 濺射電壓:<500V
  4. 靶材尺寸:φ50×0.1(mm)
  5. 控制模式:5 寸觸控螢幕程式控制
  6. 主機功率:100W
  7. 濺射電流:10-50mA ,控制精度 1mA
  8. 濺射時間:0-600s,控制精度 1s
  9. 工作真空:4-8Pa,顯示精度 0.1Pa
  10. 極限真空:<1Pa
  11. 真空測量:皮拉尼真空計
  12. 真空腔體:φ120×100(mm)
  13. 樣品支架:φ90mm
  14. 保護功能:電流、真空保護

儀器組成

1 濺射源:採用低壓平面磁控濺射,可濺射多種貴金屬Au、Pt、Pd、Ag
2 濺射電源:恆流磁控DC濺射電源300-600V,Max50mA控制精度可達1mA
3 控制方式:採用觸摸程式控制,具備全自動控制,一鍵操作,系統採用ARM架構,一體化集成界面,具備中英文操作界面
4真空腔體:130×100mm
5樣品台:樣品台φ65mm可升降,可同時放置12個標準樣品台。
6數據處理:可用實時曲線顯示濺射電流、濺射電壓、靶材使用時間,真空系統使用狀態等系統參數。
7真空系統:極限真空<1Pa,採用旋葉真空泵。
8 真空測量:全量程皮拉尼數字真空計
9 濺射參數:控制濺射時間≤900s,控制精度1mA,採用恆壓控制,工作真空2-8Pa
10 保護功能:具備電流保護和真空保護功能,在電流過大、真空度較差時保證設備安全

儀器特點

磁控濺射的原理決定了其濺射速度高、樣品溫升小的特點,非常適用溫度敏感樣品如纖維、濾膜、高分子材料、電極製備等。
1.全數字顯示5 寸液晶顯示屏、全數字顯示。
2.操作簡緊湊單,產品輕便小巧,操作簡單,僅需連線電源即可正常工作,使用者無需專業知識和專業培訓
3.可直接放置12個標準釘型樣品台,無需工作人員介入,節省人力和時間
4.採用ARM架構,全自動控制,控制精度高,電流調節精度為 1mA。真空調節精度為 1Pa,時間調節精度為 1s。可調節
5.低電壓,穩定真空環境,可濺射多種常用金屬金、鉑、、銀等
6.濺射顆粒可達納米級別,濺射顆粒< 5nm製備薄膜緻密,適合高分辨SEM使用
7.採用磁控濺射技術,利用平面磁場減少溫度的變化,適用於溫度敏感樣品
8.配有多個感測器實時監控運行狀態,保證儀器使用安全
9.長期運行,穩定可靠,無需特殊維護
  1. 電流、壓力、時間參數更改後系統可以保存當前設定參數,下一次上電即默認此參數,只需點擊啟動按鈕即可,設備將會按照默認參數進行濺射,濺射完畢後自動破空,全程無需其他操作。

使用方法

  1. 按照設備參數接入電源、氣源(可選),確保接入電源、氣源的穩定可靠。打開設備背部的電源總開關,打開設備上面的按鈕開關,顯示屏工作正常,系統自檢。
  2. 檢查腔室壓力,如腔室存在負壓可點擊破空按鈕進行消除,等待腔室恢復至大氣壓即可打開上蓋。
  3. 放入樣品台支架,並且根據樣品情況酌情調整樣品表面與靶材的距離,使兩者之間間距為 20mm 左右為最佳。關閉上蓋。
  4. 在操作界面,根據樣品情況以及所需要的鍍膜質量調整設定真空、設定時間以及設定電流三個參數。(推薦值:真空 5Pa、時間 30s、電流 20mA)
  5. 點擊啟動按鈕,設備開始運行,觸控螢幕實時顯示設備運行狀態以及濺射參數等信息。
  6. 設備濺射結束後會自動進行腔室破空,等待腔室恢復至大氣壓,停止按鈕由灰色變為藍色,文字由停止變為啟動,圖示也隨之改變。至此一個完整的濺射流程結束。
  7. 打開上蓋,取出樣品。
離子濺射儀
使用方法

儀器安裝

  1. 靶材更換安裝:靶頭由禁止環、壓環、靶材組成,更換靶材時需要先使用內六角旋鬆禁止環,然後旋轉禁止環即可取下,再旋鬆壓環螺絲,取出壓環即可更換靶材。
  2. 真空泵安裝:首次使用真空泵需要加注潤換油: 打開潤滑油加注口,將隨機附帶機油加入。 2、通過油觀察窗可以觀察潤滑油加入情況。
  3. 油污過濾器安裝 取下油霧過濾器的塑膠封帽(注意進出氣口方向),安裝於真空泵排氣口,中間使用 KF16 密封圈進行密封,並用 KF16 卡箍擰緊固定。
  4. 氣路連線:如設備現場具備通氣條件,請使用外徑 6mm 內徑 4mm 的軟氣管,氣體種類為氬氣或氮氣,如沒有請正常通入空氣即可。

性能指標

型號
G10-MC
GMC-100
G16-MC
G20-MC
T16-MC
G20-MV
真空腔體
120×100
130×100
160×120
160×120
160×120
160×120
濺射電壓
300-600
300-600
300-600
300-700
200-700
200-700
樣品台
60
65
80-100
80-100
80-100
80-100
濺射類型
磁控
磁控
磁控
磁控
磁控
磁控
濺射真空
2-10Pa
2-10Pa
2-10Pa
2-10Pa
0.05-2Pa
2-10Pa
控制方式
自動
自動
自動
自動
自動
自動
供電要求
220V/50Hz




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