離子束輔助磁控濺射系統

離子束輔助磁控濺射系統是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器，於2011年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：離子束輔助磁控濺射系統
• 產地：中國
• 學科領域：工程與技術科學基礎學科
• 啟用日期：2011年1月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備

技術指標

兩個500W射頻靶 兩個500W直流靶 極限真空 1*10-6 Pa 陽極離子源一個。

主要功能

沉積功能薄膜材料。