離子束杭蝕劑icn f,r"<<tn rPSiSt J}}聚焦離子柬作曝光源的杭蝕刑,由於聚焦離f柬叮以進行掃描誘發輻射化學反應,在固體內的散射範圍因質覺大要比電r束小f}J個數星級以上,因而無鄰近效1."1.離f'束抗i?L}t}j可以達到高於電子束抗蝕劑的分辮率((U.UStam以卜),是進行。一1 }}m以下創像加」}t'J要技術通常的一些輻射線抗蝕劑,如甲從丙烯酸甲f}}等均可被川件離j_束杭蝕}}l
離子束杭蝕劑icn f,r"<<tn rPSiSt J}}聚焦離子柬作曝光源的杭蝕刑,由於聚焦離f柬叮以進行掃描誘發輻射化學反應,在固體內的散射範圍因質覺大要比電r束小f...
電子抗蝕劑(Electron resist)是用於電子束曝光的一種抗蝕劑,屬於高分子聚合物,其性能類似於光學曝光中的光致抗蝕劑,即輻照可使其產生化學或物理變化而形成圖形。...
聚焦離子束(Focused Ion beam, FIB)的系統是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小...常用的電子束曝光抗蝕劑對離子的靈敏度要比對電子束高100倍以上。除了靈敏度高...
通過具有一定能量的電子束、離子束與固體表面相互作用來改變固體表面物理、化學...電子束曝光 用具有一定能量的電子束照射抗蝕劑,經顯影后在抗蝕劑中產生圖形的...
離子束感光樹脂、on I;ca:二photographic reesin指以離子束為光源的感光樹脂,一也稱為離一束抗蝕劑inn }}ramresist ...
離子束投影光刻發生的接近效應是微不足道,其產生的熱量可忽略不計(離子和電子不一樣,其積存能量具有有效性和局部性)。此外,對曝光抗蝕劑來說,離子僅需要電子...