雙束場發射電子顯微鏡

雙束場發射電子顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器，於2014年7月11日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙束場發射電子顯微鏡
• 產地：捷克
• 學科領域：機械工程
• 啟用日期：2014年7月11日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

場發射電子槍，電子束加速電壓：350 V - 30 kV；Ga離子槍，離子束加速電壓：500 V C 30 kV；解析度：0.8 nm (@30kV, STEM)，0.9 nm (@15kV, SE), 1.4 nm (@1kV, SE)；配備Pt氣體沉積源；配置STEM EBSD 樣品台；安裝Auto SliceView軟體可以實現自動化離子束切割成像. 配置IEE刻蝕.。

主要功能

離子切割FIB、輔助沉積與刻蝕；掃描電鏡觀察,TEM 樣品製備 ，STEM樣品觀察EDS EBSD。