雙曝光法

又稱兩次曝光法。在全息光路布局中，用一張全息底片分別對變形前後的物體進行兩次全息照相。這時，物體在變形前後的兩個光波波陣面相互重疊， 固定在一張全息圖中。如全息圖用拍攝時的參考光照明，再現的干涉條紋圖即表征物體在兩次曝光之間的變形或位移。雙曝光全息干涉法是簡單易行的常用方法，可獲得高反差的干涉條紋圖。

基本介紹

• 中文名：雙曝光法
• 外文名：double-exposure holography

原理

在全息底片上，對模型載入前後兩種狀態進行兩次曝光，可以在一張全息底片上，同時記錄下模型不受應力時的物光ω₀和承受應力後的物光ω₁和ω₂。用參考光照射這張全息底片，便可以同時再現ω₀、ω₁和ω₂三個物光的波陣面，並互相干涉而形成組合干涉條紋，這種組合條紋，可看作是這三種光波中任何一對光波的干涉條紋的組合。

兩次曝光獲得的干涉條紋同主應力差和主應力和都有關，它是由等和線條紋和等差線條紋調製而成的組合條紋。