雙層輝光離子滲鉻

雙層輝光離子滲鉻工藝是指輝光離子滲鉻後，其滲層由沉積層及擴散層組成，故稱為雙層輝光離子滲鉻。與其他滲鉻相比較，這種工藝具有滲鉻層均勻、與基體結合牢固、抗腐蝕與耐磨性能好、滲速快、生產周期短、勞動條件好等優點。

使用輝光離子爐進行雙層滲鉻，爐內保護氣氛為氬氣，壓力控制在1.33~1330Pa之間，工作電壓不高於1000V.電流大小則取決於工件的數量和尺寸，加熱溫度為900~1100℃。鉻源為工業純鉻塊。

雙層滲鉻時，處理溫度與時間對滲層厚度的影響分別隨著處理溫度的升高、時間的延長，滲層增厚。