雙並聯MZ調製器偏置控制方法與裝置能提高DPMZ中兩個MZ型調製器和相位延遲器的偏置控制精度,降低電路的複雜度和成本
基本介紹
- 中文名：雙並聯MZ調製器偏置控制方法與裝置
- 申請日：2011.04.06
- 公開日：2011.09.28
- 申請人：烽火通信科技股份有限公司
引
【申請日】 | 2011-04-06 | ||
【公開號】 | CN102201868A | 【公開日】 | 2011-09-28 |
【申請人】 | 烽火通信科技股份有限公司 | 【地址】 | 430074 湖北省武漢市東湖開發區關東科技園東信路5號 |
【發明人】 | 張璋;楊寧;李玲;龍熙平;陳德華 | ||
【專利代理機構】 | 北京捷誠信通專利事務所(普通合夥) 11221 | 【代理人】 | 魏殿紳;龐炳良 |
【國省代碼】 | 42 | ||
【頁數】 | 16 | ||
【主分類號】 | H04B10/155 | ||
【專利分類號】 | H04B10/155;G02F1/01 | ||
摘要
本發明公開了一種雙並聯MZ調製器的偏置控制方法與裝置,方法包括步驟：將DPMZ輸出的光電流轉化為電壓信號分成兩路,進行低通濾波和高通濾波,得DPMZ輸出平均光強和輸出光強的低頻RF分量；將時間分成連續若干組時隙,每組時隙包括時隙1、2、3；在時隙1、2中控制兩個MZ型調製器的偏置1、2,使DPMZ輸出平均光強最大,則偏置1、2處最佳狀態；採用對數RF檢波器檢測DPMZ輸出光強的低頻RF分量的功率,用直流電壓Vrf表示,在時隙3中通過控制位延遲器的偏置3改變相位延遲,使Vrf最小,則偏置3處最佳狀態。本發明能提高DPMZ中兩個MZ型調製器和相位延遲器的偏置控制精度,降低電路的複雜度和成本。
