銻化銦單晶indium antimnnide single ryst.l InSh周 期表第皿、V族元素化合物半導體J共價鍵結合,有一定離子 鍵成分。i方晶系閃鋅礦型結構,晶格常數0 . 5.17$nm密度 5.775gIrm3o熔點525`x'.。
基本介紹
- 中文名:銻化銦單晶
- 屬性:化學化工名詞
銻化銦單晶indium antimnnide single ryst.l InSh周 期表第皿、V族元素化合物半導體J共價鍵結合,有一定離子 鍵成分。i方晶系閃鋅礦型結構,晶格常數0 . 5.17$nm密度 5.775gIrm3o熔點525`x'.。
銻化銦單晶indium antimnnide single ryst.l InSh周 期表第皿、V族元素化合物半導體J共價鍵結合,有一定離子 鍵成分。i方晶系閃鋅礦型結構,晶格常數0 . 5.17$nm密度 5.775...
銻化銦單晶(indium antimoningle crystal InSb)共價鍵結合,有一定離子鍵成分。立方晶系閃鋅礦型結構,晶格常數0.6478nm。密度5.775g/cm3。熔點525℃。為直接帶隙半導體,室溫禁頻寬度0.18eV,本徵載流子濃度1.1×1022/m3,本徵電阻率6...
《中華人民共和國國家標準:銻化銦單晶電阻率及霍耳係數的測試方法(GB 11297.7-1989)》適用於長方體和薄片銻化銦單晶樣品的電阻率和霍耳係數的測量。本方法所採用的樣品是從銻化銦單晶中切割製備的,在特定位置上施加電極接觸,用直流方法...
8.6.1銻化銦單晶 8.6.2砷化銦單晶 8.6.3磷化銦單晶 8.6.4以InBv為主的固溶體 8.6.5AIInB2V1型的半導體化合物 8.7ITO(銦錫氧化物)8.7.1ITO粉 8.7.2納米ITO粉 8.7.3ITO靶材(銦靶)8.7.4ITO薄膜...
不同材料適用於不同場合,銻化銦適用於作為敏感元件,鍺和砷化銦霍爾元件適用於測量指示儀表。霍爾元件結構 霍爾元件的外形如下圖所示,它是由霍爾片、4根引線和殼體組成。霍爾片是一塊矩形半導體單晶薄片(一般為4mm×2mm×0.1mm),...
(3)加熱爐與盛晶體容器均不移動,而採用降溫的方法使溫度場變化而生長成單晶,此種方法稱為梯度凝固法。分類 水平布里支曼法(HB)HB法主要用來生長砷化鎵單晶,亦用來生長砷化銦、銻化銦及銻化鎵等單晶。HB爐分為兩溫區爐(2T-HB)、...
成批量的半導體單晶都是用熔體生長法製成的。直拉法套用最廣,80%的矽單晶、大部分鍺單晶和銻化銦單晶是用此法生產的,其中矽單晶的最大直徑已達300毫米。在熔體中通入磁場的直拉法稱為磁控拉晶法,用此法已生產出高均勻性矽單晶。...
MCZ已用於製備銻化銦,砷化鎵和矽單晶。製備矽單晶(MCZ-Si)已工業化。優點 用MCZ法的優點:(1)可明顯地改善單晶的均勻性,包括徑向與縱向的均勻性;(2)降低缺陷密度;(3)對矽單晶可通過調節磁場及增禍轉速在較大的範圍內控制氧含量...
林蘭英主要從事半導體材料製備及物理的研究。在鍺單晶、矽單晶、砷化鎵單晶和高純銻化銦單晶的製備及性質等研究方面獲得成果,其中砷化鎵氣相和液相外延單晶的純度及電子遷移率,均達到國際先進水平。人物生平 1918年2月7日(農曆丁巳年十二月...
single crystal dislocation display, and proveded of feasibility this method with large number experiments.本文提出了半導體銻化銦單晶位錯顯示中對樣品處理的一種新方法,並通過大量的實驗證實了這種方法的可行性。
在一四一一所工作期間,先後參與或主持過陶瓷厚膜電容、高溫導電漿、銻化銦單晶材料的研究。研究方向 主要從事放射免疫分析方法學研究,放射性同位素標記研究、醫用短壽命放射性同位素製備和有機精細化工方面的研究。主要貢獻 先後在《中國核醫...
先後負責研製成我國第一根矽、銻化銦、砷化鎵、磷化鎵等單晶,為我國微電子和光電子學的發展奠定了基礎;負責研製的高純度汽相和液相外延材料達到國際先水平。 本書以林蘭英院士高度的愛國主義精神為出發點,自強不息的奮鬥精神為主線,以...