《金屬薄膜沉積中的亞閾值能量氦引入及氦行為研究》是依託復旦大學，由施立群擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：金屬薄膜沉積中的亞閾值能量氦引入及氦行為研究
- 依託單位：復旦大學
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：施立群
- 批准號：10475016
- 申請代碼：A3001
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2005-01-01 至 2008-12-31
- 支持經費：32（萬元）
項目摘要
採用自行研製的一種微波ECR電漿輔助離子束濺射沉積新技術，研究薄膜沉積中亞閾值能量的氦引入和氦存在行為。揭示ECR氦電漿輻照性質（電漿密度、溫度、電位）和沉積工藝參數對引入的氦濃度、氦的存在狀態、氦的釋放以及薄膜成分、結構、缺陷和性質的影響，並與離子注入和氚化物中氚衰變產生的氦進行對比研究，闡明該氦引入方法的特點，建立無輻照損傷且在體內均勻分布的高效引氦方法。用動力學蒙特卡羅方法（KMC）模擬ECR電漿輔助離子束濺射沉積含氦薄膜的生長，從理論上了解離子束濺射沉積參量及氦電漿性質對引入氦濃度及薄膜生長的影響。這為發展高性能的儲氚固氦材料，促進聚變能源的開發以及氦缺陷在其它領域的套用提供了重要的研究方法。
