鄒世昌

鄒世昌，1931年7月27日出生於上海市，材料科學家，中國科學院院士，中國科學院上海微系統與信息技術研究所研究員、博士生導師。

1949-1950年就讀於中國紡織工學院（今東華大學）後轉入唐山交通大學，1952年畢業於交通大學唐山工學院（即唐山交通大學，現西南交通大學）。1958年獲蘇聯莫斯科有色金屬學院副博士學位。歷任中國科學院上海冶金研究所研究員、所長。曾參加直空閥門甲種分離膜的研製，並擔任工藝組負責人，該成果1984年獲國家發明獎一等獎。

鄒世昌在國內較早開展了離子束材料改性與離子束分析的研究工作。在中國最早將離子注入套用於半導體積體電路，首先建立了離子背散射溝道技術，並套用於半導體材料及器件。研究離子注入矽單晶的雷射退火行為，離子注入多晶矽的雷射再結晶，並研製成高CMOS器件。

基本介紹

• 中文名：鄒世昌
• 國籍：中國
• 民族：漢族
• 出生地：上海
• 出生日期：1931年7月27日
• 職業：教學科研工作者
• 畢業院校：交通大學唐山工學院
• 主要成就：1991年當選中國科學院院士
• 代表作品：《直空閥門甲種分離膜》
• 原籍：江蘇蘇州太倉市

人物經歷

1931年7月27日，鄒世昌出生於上海市，原籍江蘇蘇州太倉市。當他開始懂事的時候，“八一三”戰爭爆發。目睹日本侵略軍掠奪成性的罪惡行徑，在他幼小的心靈上埋下了痛切的創傷和悲憤的怒火。在十分艱難的條件下，鄒世昌依靠助學金得以繼續求學，殷切盼望著抗日戰爭的勝利，懂得了國家經濟實力強大與科學技術進步是取得戰爭主動權的重要因素，中國之所以受侵略與壓迫，國力不強與技術落後是一個很重要的原因。

1949年初，鄒世昌從上海格致中學畢業後考入了由申新紗廠創辦的中國紡織工學院（1999年更名為東華大學）學習。

1950年，進入交通大學唐山工學院（即唐山交通大學，現西南交通大學）冶金工程系學習。

1952年，畢業後進入中國科學院上海冶金陶瓷研究所工作，擔任研究實習員。

1953年，進入北京俄語專修學校學習。

1954年，赴蘇留學，前往莫斯科有色金屬學院學習（至1958年）。

1958年，在前蘇聯莫斯科有色金屬學院獲副博士學位，之後回國進入中國科學院上海冶金研究所（2001年更改為中國科學院上海微系統與信息技術研究所）工作，先後擔任助研、副研究員，室主任、大組長、研究員、所長。

1979年，任西德慕尼黑弗朗霍夫學會固體技術研究所客座教授（-1980年）。

1986年，當選為中共上海市第五屆委員會候補委員。

1991年，當選為中國科學院學部委員（院士）。

1992年，當選為中共第十四屆中央委員會候補委員。

主要成就

科研成就

鄒世昌在六十年代曾負責國防重點任務甲種分離膜（代號真空閥門）的加工成形工作，是成功研製甲種分離膜的第二發明人。七十年代以後在離子束材料改性、合成、加工和分析等方面進行了系統的研究工作，獨創了用二氧化碳雷射背面輻照獲得離子注入損傷的增強退火效應，用全離子注入技術研製成我國第一塊120門砷化鎵門陣列電路，用反應離子束加工成我國第一批閃光全息光柵，研究SOI材料並製成CMOS/SOI電路，發展了離子束增強沉積技術併合成了氮化矽、氮化鈦薄膜。

鄒世昌獲國家發明一等獎和中國科學院自然科學、科技進步等14項獎勵，發表文章200多篇，2003年被評為上海浦東開發建設傑出人才，2008年被國際半導體設備材料協會SEMI授予中國半導體產業開拓獎。

2015年11月，2015年上海科普教育創新獎鄒世昌院士的“繼承和發揚‘兩彈一星’精神，激勵廣大青年投身祖國科研一線”項目獲得本年度“科普貢獻獎（個人）”一等獎。

60年代初，由於蘇聯撕毀協定，國家要冶金所聯合國內有關單位承擔一項由周恩來總理親自關注的用於製備濃縮鈾的甲種分離膜項目，抽調副所長吳自良兼任這個研究室的主任，當時已是研究室主任的鄒世昌擔任該室工藝大組的組長。在任務緊急、資料匱乏、國外封鎖等一系列困難面前，夜以繼日，奮力拚搏，終於研製成功性能完全合格的甲種分離膜，並立即投入了生產，為發展中國的原子能工業作出了重要的貢獻。從70年代起。鄒世昌開展離子束材料改性、合成、加工與分析的研究工作，研究了離子束與固體相互作用的物理過程，發展了一系列新技術，創建了離子束開放實驗室。鄒世昌於70年代初起就從事半導體材料與器件的研究，由於種種原因，一直到90年代中期中國尚未建立起規模生產的半導體積體電路產業，比起步晚的國家和地區還落後了一大截。他抱著不甘落後、奮發圖強的決心，在卸任研究所所長以後，又接受委任投身到在上海浦東建設中國微電子產業的高潮中。

面對國外優厚的物質待遇和工作條件，鄒世昌心地坦然，絕不留戀，他認為祖國再窮也是我們自己的，改變她的落後面貌，正是我們的責任。回顧自己的經歷，鄒世昌慶幸自己在好的學校中得到了嚴格的訓練與教育，出了校門又投身到嚴師的門下，老一輩科學家的獻身精神和言傳身教促使他沿著正確的軌道健康成長。隨著時間的推移，鄒世昌也被推上了領導科研工作和培養青年科技人員的崗位，他深感自己對年輕一代科技人員所負的責任，決心儘快將自己多年積累的知識與經驗傳授給他們，幫助他們走上為祖國科技事業而奮鬥的軌道。

20世紀70年代初，經受過“文化大革命”批判的鄒世昌回到了研究工作崗位，此時他的研究領域已轉到研究離子束與固體材料的相互作用及其在半導體材料與器件方面的套用。當時“文化大革命”還在繼續，能用的設備是國內製造的第一台20萬電子伏特能量離子注入機，性能很不穩定。鄒世昌先參加了CMOS積體電路（電子手錶分頻器）閾值電壓控制的後期部分工作，這是在中國首次將離子注入套用於半導體積體電路。1974 年與上海原子核研究所合作在該離子注入機上配置束流準直器及精密定角器，建立了背散射能譜測量及溝道效應分析系統，套用於離子注入半導體的表面層組分濃度分布的測定、晶格損傷的分析以及摻雜原子晶格定位，於1975年完成了氖離子背面注入損傷吸收矽中重雜質以改善p-n結反向漏電特性的研究工作。同年9月，鄒世昌在西德卡爾斯魯厄“離子束表面分析”國際學術會議上發表了這篇論文，引起國際同行好評。令他們十分驚訝的是國際上一般都要用百萬以上電子伏特能量加速器及精密儀器進行的實驗，中國竟在自製的設備上完成了。這是中國第一篇在國際學術界發表的利用離子背散射能譜分析開展半導體研究的論文。1978年又與上海光機所合作在國內率先開展了半導體雷射退火的研究工作。在建立了上述技術的基礎上，鄒世昌領導的離子束實驗室對離子束與固體材料的相互作用進行了系統的研究並套用於材料的改性、合成、加工、分析，陸續完成了以下一些研究工作。（1）半導體離子注入：研究了離子注入矽的損傷及其退火行為，獨創性地提出了用二氧化碳雷射從背面照射對離子注入半導體進行退火及合金化的新方法，這項工作獲中國科學院1982年重大科技成果二等獎。研究了用雙離子注入的辦法在磷化銦中得到了最高的載流子濃度及摻雜電激活率，並用全離子注入技術率先研製出國內第一塊120門砷化鎵門陣列電路和高速分頻器，獲中國科學院1990年科技進步獎一等獎。

（2）SOI技術：對SOI技術進行了系統的研究，用離子注入和雷射再結晶方法合成了SOI新材料。解決了雷射再結晶SOI 材料適於製作電路的表面質量問題，獲得一項發明專利。在深入分析SOI材料光學效應的基礎上，提出了一套非破壞性的表征技術，進而研製成功新型的CMOS/SOI電路。該項目獲中國科學院1990年自然科學獎二等獎。近年來SOI材料已進入實用並將成為21世紀矽積體電路的基礎技術，說明鄒世昌對這一新研究領域的高瞻遠矚。

（3）離子束微細加工：研究了低能離子束轟擊材料表面引起的濺射、損傷和貌相變化等物理現象，並用反應離子束微細加工在石英基片上刻蝕出中國第一批實用閃耀全息光柵，閃耀角可控，工藝重複穩定，衍射效率大為提高，這是光柵製造技術的重大突破，獲中國科學院1987年科技進步二等獎與1989年國家科技進步獎三等獎。

（4）離子束增強沉積：負責國家“863高技術材料領域材料表面最佳化”專題，建立並掌握了可控、可預置和可重複的離子束增強沉積技術，合成了與基體有很強粘附力，低摩擦係數和高耐磨性的氮化矽、氮化鈦薄膜。

由於這些成績，鄒世昌被選為國際離子束領域兩個主要學術會議（離子注入技術——IIT和離子束材料改性——IBMM）的國際委員會委員。1989年被評為上海市勞動模範。

中國科學院院士、材料學家鄒世昌近日在一個活動上說，我國的信息技術需要進一步發展，不光會製造，還要自行設計，“目前，好多產品還靠從國外引進，這是解決核心競爭力必須攻克的難題”。

在鄒世昌看來，我國積體電路工藝技術較國際先進水平相差兩代，要縮小差距，還需要在核心技術上取得突破。“雖然目前已經取得了一些進展，比如，世博會門票、交通卡、電子身份證，還有移動通信的TD-SCDMA技術……國產晶片已有了廣泛套用，但是，現在的通信方面以及計算機領域，好多產品還靠從國外引進。”鄒世昌介紹說，我國現在的積體電路工藝還在0.18微米、0.25微米，而國際先進工藝已達到32納米(0.032微米)，技術已經成熟。目前，我國積體電路晶片80%依靠進口，在這方面消耗的外匯超過石油，成為第一外匯消耗大戶。他表示，如果以這樣的方式來發展我國的信息化產業，“將受到方方面面的限制，一些核心技術國外是很難轉移出來的。自己不發展的話，這個核心技術還是在人家手裡”。

鄒世昌獲國家級、中國科學院和上海市自然科學獎、科技進步獎、發明獎等共14項，發表論文200多篇，是國際“離子注入”及“材料改性”兩個學術會議的國際委員會委員。

人才培養

鄒世昌培養博士生30多名。

20世紀80～90年代年輕科技人員流失的問題相當嚴重。鄒世昌十分清楚面臨的資金不足，住房緊張，陳舊的論資排輩思想等等難題。經過反覆思考，到了90年代初，鄒世昌認為是下決心的時候了。

“人才是關係到研究所興衰存亡的大問題，一個研究單位的競爭能力，歸根到底取決於科技隊伍的素質與水準。作為所長，我在位一天，就要創造一切條件讓年輕人儘快成長起來。”鄒世昌終於說話了。他鐵了心，採取超常規的政策和措施吸引、穩定、留住年輕人，於是天平開始向年輕人傾斜。在晉升高級專業技術職稱中，至少有20%～30%的比例用於青年科技人員；吸收、選拔他們參加所學術、學位評定、職稱評審3個委員會和擔任各級領導；出國考察要優先考慮年輕人；在住房分配中，青年科技人員的比例不少於20%；對優秀青年人才要一事一議，特事特辦，歡迎他們來所；要給青年人壓擔子，要為他們創造脫穎而出的環境與條件。為吸引優秀的年輕人，他逐個找他們談心，以自己的親身經歷進行言傳身教，要求他們把發展祖國的科技事業作為自己的責任，同時為他們排憂解難，以真誠之情打動人心。1992年，一位留德博士研究生來信，表示願學成後回國。鄒世昌親自覆信，表示一定盡責安排好回國以後的工作和生活條件。祖國的呼喚，所長的關懷，使遊子回來了。他自己培養的20多名博士碩士中就有一半在國外進修後回國效力，他們以優異的業績晉升為研究員並分別擔任國家重點實驗室、開放實驗室主任，有的已被推上了所長助理、副所長的領導崗位。

榮譽表彰

1991年，當選為中國科學院學部委員（院士）。

社會任職

上海市積體電路行業協會會長

上海華虹 NEC電子有限公司副董事長

離子注入和材料改性兩個國際學術會議的國際委員會委員

德國慕尼黑弗朗霍夫學會固體技術研究所客座教授。

1986年當選為中國共產黨上海市第五屆委員會候補委員，1992年當選為中國共產黨第十四屆中央委員會候補委員。上海華虹集團公司董事，上海華虹NEC電子有限公司、上海華虹積體電路有限公司、上海新康電子有限公司副董事長，上海眾華電子有限公司董事長；上海市積體電路行業協會理事長；上海浦東新區科學技術協會主席。

人物評價

鄒世昌是一個視事業為第一生命的人。他愛祖國、愛人民，愛幹了大半輩子的科學研究事業。鄒世昌在一則自述中深情地寫上了這么一段：“我出生於這塊飽經蹂躪侵略、貧窮落後的土地上，我的命運就和祖國的前途緊緊相連，我的歷史責任是要竭盡全力去改變她的面貌，建設一個繁榮昌盛、科技發達的新中國”，這是鄒世昌在科學事業上拼搏奮進50載的心路歷程和真實寫照。