近紅外高光譜成像系統是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的分析儀器，於2016年12月15日啟用。
基本介紹
- 中文名：近紅外高光譜成像系統
- 產地：中國
- 學科領域：信息與系統科學相關工程與技術
- 啟用日期：2016年12月15日
- 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 光譜成像儀
技術指標,主要功能,
技術指標
近紅外高光譜成像系統的光譜範圍為900-1700nm，光譜解析度為5nm，光譜通道數為256，掃描方式為內置推掃，狹縫尺寸為30um*14.2mm，探測器為InGaAs，像素數（空間維*光譜維）為320*256，動態範圍為12bits,圖像空間解析度（像素合併）為320*400，掃描速度為4s/cube，重量7kg，內置電池80Wh（工作時間3小時）。
主要功能
近紅外高光譜成像系統用於圖像採集掃描，在獲得目標影像信息的基礎上，還可以獲得數百甚至上千波段的光譜信息。 GaiaField系統有著輕便靈活，續航能力出色、智慧型化、數據分析處理功能齊全、能夠實時監控等特點。廣泛適用於戶外和實驗室內的套用需求，設備開展業務主要包括：目標探測與識別、偽裝與反偽裝等軍事領域，地面物體與水體遙測、現代精細農業等生態環境監測領域，以及刑偵、文物保護、生物醫學、工業分選等領域。
