近紅外高光譜成像光譜儀

近紅外高光譜成像光譜儀

近紅外高光譜成像光譜儀是一種用於物理學領域的分析儀器,於2012年12月31日啟用。

基本介紹

  • 中文名:近紅外高光譜成像光譜儀
  • 產地:中國
  • 學科領域:物理學
  • 啟用日期:2012年12月31日
  • 所屬類別:分析儀器 > 光譜儀器 > 紅外光譜儀
技術指標,主要功能,

技術指標

狹縫尺寸:30微米; 成像解析度:3.64納米; 光譜範圍:900-1700納米; 數值孔徑:2。

主要功能

光譜儀核心部分包括均勻光源、光譜相機、電控平台、計算機及控制軟體等部分。當光源照射在於電控移動平台上的待測樣品時,樣品的發射光被光譜相機捕獲,得到一維的影響及光譜。

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