近紅外光學腦成像系統

近紅外光學腦成像系統是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2015年12月10日啟用。

基本介紹

• 中文名：近紅外光學腦成像系統
• 產地：美國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2015年12月10日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器
• 技術指標：光源:≧16個(可升級)、波長:760nm和850nm
• 主要功能：認知心理學、運動感覺功能研究、自閉症/精神分裂等、學習/注意力障礙、情感、覺醒、決策

技術指標

光源:≧16個(可升級)；波長:760nm和850nm；探測器：16個，靈敏度要小於1pw，支持升級；可實現與與EEG 、fMRI 、PET等的同步研究工作 ；設備控制軟體：光源和探測器位置的編輯，波長的選擇；數據採集和分析軟體：可設定數據採集時進行各種參數，事件和數據編輯功能，偽跡移除\校正、探針解剖位置編輯、動態顯示血氧狀態、數據查看和激活腦區功能成像；提供多種信號分離和提取能力。

主要功能

認知心理學、運動感覺功能研究、自閉症/精神分裂等、學習/注意力障礙、情感、覺醒、決策。