軟X射線譜學顯微線站

軟X射線譜學顯微線站是一種用於物理學、化學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器，於2010年1月10日啟用。

基本介紹

• 中文名：軟X射線譜學顯微線站
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、化學、材料科學、能源科學技術
• 啟用日期：2010年1月10日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器

技術指標

光源類型 波盪器 能量範圍 85 150eV 樣品處光通量 1x014phs/s/cm2@300mA@92eV 掩膜處光斑尺寸 3×3mm2 (H × V) 干涉條紋周期 100nm 單次曝光尺寸 0.4x0.4mm2。

主要功能

雙光柵干涉 多光柵干涉。