《超精密測量光學器件的變灰度掩模法製作工藝研究》是依託中國人民解放軍國防科技大學，由戴一帆擔任項目負責人的青年科學基金項目。
基本介紹
- 中文名：超精密測量光學器件的變灰度掩模法製作工藝研究
- 項目類別：青年科學基金項目
- 項目負責人：戴一帆
- 依託單位：中國人民解放軍國防科技大學
- 批准號：50005022
- 申請代碼：E0509
- 負責人職稱：獎種
- 研究期限：2001-01-01 至 2002-12-31
- 支持經費：18（萬元）
中文摘要
變灰度掩模法是一種新的二元光學器件製作方法，具有成本低、周期短、方法簡便等優點。本課題著重研究掩模版灰度等級的精確控制、解析度的提高及超精密定位、測量、控制集成等問題，並研究用變灰度掩模法製造低成本、高效能超精密測量光學器件的製作工藝。其研究成果將大大提高超精加工的測試水平，對納米製造技術的推廣套用具有重要意義。
