超淨材料製備方法

超淨材料製備方法指在特別潔淨的環境中製備雜質含量不超過10億分之一(即純度為百分之99.9999999)的物質材料的一種現代技術方法。隨著半導體材料的發展，對單晶矽純度的要求越來越高。同時，超大規模積體電路的製作工藝，也要求超潔淨的空間環境，如在製造64K單元的存貯器(DRAM)時，在3～4平方厘米麵積的半導體材料上約有15萬個元件，只要在相鄰二條線之間落下1～2微米灰塵，就會造成短路而成為不合格產品，因此要空間潔淨度必須在單位體積內不超過一百個塵埃粒子(粒徑為0.5微米)。所以要製備超淨材料必須採用多種現代技術，形成綜合性的技術方法。

其中主要有：①超淨空間技術，如高性能空氣濾清器、超精密機械加工技悼拔永洪術、高性能空調技術等。②超高真空技術，如機械式真空泵宙茅己、噴射式真空泵等技術。③超淨高溫加熱技術，如紅外線、電子束、太陽爐、電孤爐等技譽駝術。要提供完全潔罪埋驗閥淨的技術，您市滲難度很大，是國際上高新技戒請跨術競爭的焦點。美國航空、航天總署就把塵埃粒度0.5微米，改成0.3或0.1微米。在一定的意義上，可以說誰在超淨技術上獲得突破性進展，誰就能在製造乃擊設超大規模積體電路方面競爭取勝。