許高博，漢族，畢業於山東大學，中國科學院微電子研究所副研究員。
基本介紹
- 中文名：許高博
- 國籍：中國
- 民族：漢
- 畢業院校：山東大學
教育背景,工作簡歷,研究方向,代表論著,
教育背景
1998.9 -2002.7 山東大學 信息科學與工程學院 學士
2003.9 -2009.7 中國科學院微電子研究所 博士
工作簡歷
2009.7 –至今 中國科學院微電子研究所
研究方向
高k柵介質/金屬柵技術
代表論著
1. Gaobo Xu, Qiuxia Xu, Thermal stability of HfON, HfSiON and HfTaON gate dielectrics, 9th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology Proceedings
2. Gaobo Xu, Qiuxia Xu, Characteristics of high-quality HfSiON gate dielectric prepared by physical vapor deposition, Chinese Physics B
3. Gaobo Xu, Qiuxia Xu, Thermal stability of HfTaON films prepared by physical vapor deposition, Journal of Semiconductors
4. Gaobo Xu, Qiuxia Xu, Characteristics of HfSiAlON Gate Dielectric Prepared by Physical Vapor Deposition, ECS Transactions
