表面顆粒分析儀

表面顆粒分析儀是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的分析儀器，於2018年05月02日啟用。

基本介紹

• 中文名：表面顆粒分析儀
• 產地：美國
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2018年05月02日
• 所屬類別：分析儀器

技術指標

雷射405nm波長，雷射斑點直徑≤15um；支持樣品尺寸2in、3in、4in、6in和8in；可裝載樣品的最大高度1100um；透明樣品厚度至少380um；樣品固定方式：真空吸附；顆粒直徑≥80nm；。

主要功能

非接觸無損傷測量得雷射掃描方式，針對半導體行業的晶圓表面缺陷（主要包括微粒、劃傷、坑點、水漬、痕跡殘留等）的檢測及統計分類。