表層發射離子源

表層發射離子源是用高溫金屬表面電離試樣的離子源。有單帶(絲)、雙帶、三帶等不同結構。離子源是使中性原子或分子電離，並從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的不可缺少的部件。

氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質濺射以及表面電離過程都能產生離子，並被引出成束。根據不同的使用條件和用途，目前已研製出多種類型的離子源。使用較廣泛的有弧放電離子源、PIG離子源、雙電漿離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎的,常被籠統地稱為弧源高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產生離子的，也有廣泛的用途。