蘇大維格致力於行業共性技術與關鍵設備的開拓創新，高端微納圖形化直寫設備、微納材料研發，推進新型顯示、照明與成像行業的產業套用。 10年來的發展，蘇大維格成為A股深交所創業板上市企業（300331）。
基本介紹
- 公司名稱：蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司
- 公司性質：股份有限公司
- 建築面積：4萬平米
- 占地：110畝
公司簡介,發展歷程,主營產品類,
公司簡介
作為從事微納技術領域研發與製造的高技術企業， 蘇大維格致力於行
蘇大維格現有兩個廠區，占地110畝，建築面積4萬平米。 建有國家工程研究中心等研發創新平台。
蘇州工業園區鐘南街478號
第一廠區（1.3萬平米），蘇州工業園區鐘南街478號。其中，維格光電主營無縫鐳射包材、定製化全息印材、3D成像與光學防偽轉移材料、防偽燙金箔。維旺科技：建有中大尺寸超薄導光板（膜）產線。主營：超薄導光板（膜）、定向擴散增亮膜等微光學器件。具有獨立的光學設計、模具製備、評測和量產能力。套用於：平板電腦、智慧型手機，背光鍵盤、家電、汽車的LED超薄背光照明。
第二廠區（2.7萬平米）： 蘇州工業園新昌街68號。公司總
部、國家地方聯合工程研究中心、新品中試平台設在第二廠區。建有工程化的寬幅微納米加工與製造研發設施與規模化製造能力。主營：1、公共安全解決方案：證卡防偽材料（變色Color-shift）、動態光學放大膜AMOS）。2、微納儀器設備：高速紫外雷射圖形化直寫設備、納米圖形化光刻設備、柔性納米壓印設備、雷射簽注防偽系統；3、3D成像材料與器件等。4、大尺寸透明導電薄膜（觸控感測器膜）產線、LED納米圖形化試驗基地設在第二廠區。
發展歷程
2001年底，蘇州蘇大維格數碼光學有限公司SVG DigitOptics在蘇州工業園區國際科技園註冊。2002年5月，正式投入運營。
成立初期，致力於“數碼雷射全息製版系統HoloMaker series”研發、雷射全息製版技術服務、光學防偽解決方案、產業化套用。其中，HoloMaker成為中國、香港及韓國、印度等的雷射全息行業關鍵設備，成功促進了中國光學防偽與包裝行業技術進步。為此，02年初，獲中華人民共和國科技進步二等獎，這是中國雷射全息行業頒發最高獎項。公司創始人、董事長是中國光學全息工程領域的著名專家，兼任中國光學學會光信息處理與全息專業委員會主任。
2003-2004年，研製成功“定向光變色膜（OVCF）”原版製造技術，成功套用於我國第二代身份證的物理視讀膜。同年，研發成功大型納米壓印設備（平壓平和卷對卷）。
2005年，自主研發並建立了中國首條“定位鐳射轉移材料生產線”，開創了“定位鐳射印刷轉移紙張”在菸草印刷包裝上的套用先河，“定位雷射轉移紙張”獲得中國專利授權。同年，公司獲江蘇省高新技術企業認定，通過ISO9001質量管理體系認證。取得了一批雷射光刻領域的發明專利權。
2006年，成立“江蘇省數碼雷射成像與顯示工程研究中心”（科技廳、財政廳批准），主要致力於超精密雷射圖形關鍵製造技術（光刻、直寫、刻蝕）和裝備、新型平板顯示背光模組關鍵材料、光學防偽解決方案、手機導光薄膜等製造技術的研發與套用。
2006年，研製成功“寬幅智慧型雷射SLM光刻設備工程樣機並投入套用，首家實現了大幅面、高速度的亞微米全息圖像的快速光刻，多項中國發明專利授權。企業獲“蘇州工業園區十佳科技創新小巨人”、“2004-2006年度蘇州工業園區民營科技創新十強企業”稱號。
2007年，建立蘇州工業園區博士後工作站維格分站。建立鐳射轉移膜產能；研製成功HoloScanV紫外雷射干涉光刻設備，這是國際上領先水平的亞微米雷射直寫系統。蘇大維格具有了國際一流的超精密圖形的設計與製造能力。
2007年，研製成功“DMD並行雷射光刻系統MicroLab”，具有超過10,000dpi的圖形解析度，主要套用於精密圖形設計製造（導光結構、亞微米圖形），研發成功手機導光薄膜（LGF），並成立蘇州維旺科技有限公司，專注於手機及平板顯示光學材料研發與製造。
2008年8月，蘇大維格數碼光學有限公司改制成為“蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司”SVG Optronics，將業務領域擴大到“鐳射轉移材料”、“平板顯示材料”、“高端光學防偽解決方案”和“先進制造裝備”（超精密圖形雷射光刻設備，納米壓印工藝設備、LIGA技術套用等”。配合公安部相關研究院所研發DMD雙通道光變色膜，在我國“新駕駛證”“機動車行駛證”上全面套用。
2008年9月，蘇大維格的“寬幅智慧型雷射SLM光刻系統與套用”榮獲江蘇省科技進步一等獎（全省第一名）。
2008年11月，蘇大維格入選“蘇州市50家首批科技創新試點企業”。研發成功“導光薄膜”並套用於手機keypad。配合國家郵政印製局推出首套採用“定位鐳射圖形”29屆北京奧運會開幕式紀念郵票等（Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic）。
2009年3月，HoloMakerIII-b出口日本；研製成功“無縫彩虹膜壓印設備和彩虹膜材料；大型無縫鐳射薄膜壓印設備出口印尼等國。
2009年4月，“雷射直寫設備iGrapher200”投入套用，具有350nm以上圖形直寫能力，支持複雜微結構圖形製造。
2009年5月，研製成功“微透鏡陣列光學薄膜”，建立了微透鏡陣列的批量製造能力。這是中國第一個集微透鏡陣列薄膜研發與製造能力的單位。研製成功具有突破意義的“ActiveMatrix”動態圖形光學防偽薄膜，擬用於高層（公安、金融等）防偽領域。
2009年7月，蘇大維格的“微鏡Fresnel技術”套用於茅台“白金酒”防偽包裝。
2010年5月，研製成功雙面UV微納結構動態光學放大膜。
2010年10月，研製成功超大幅面（1500mmx1300mm）雷射圖形化設備，填補了行業空白。
主營產品類
定製化光學（鐳射）包印材
定製化雷射轉移材料
導光膜
導光膜專用燙金箔（電化鋁）
鐳射（光學全息）版紋展示
顯示照明光學材料器件
超薄導光板、新型透明導電膜
3D顯示、成像、增亮光學膜
光學防偽解決方案
品牌產品
高端光學防偽
微納圖形化製造與納米壓印設備
微圖形化：無掩膜雷射直寫
納米圖形化：紫外雷射混合光刻
雷射全息製版系統
卷對卷納米壓印設備
雷射原版與微納器件製備
微納結構樣品展示
