蔣洪川，男，教授，四川岳池人，1971年8月出生，IEEE會員，2006年12月獲電子科技大學材料物理與化學博士學位，主要從事電子薄膜與器件、發動機用集成敏感薄膜材料及感測器、集成火工品薄膜及器件、航空光學薄膜及器件等領域的研究工作。
基本介紹
- 中文名：蔣洪川
- 國籍：中國
- 民族：漢族
- 出生地：四川岳池
- 出生日期：1971年8月
- 職業：教授
- 性別：男
人物經歷,教育背景,工作履歷,獲獎記錄,研究方向,主要貢獻,
人物經歷
教育背景
2002.09－2006.12 電子科技大學，材料物理與化學專業，博士學位
1996.07－1999.06四川大學，無機材料專業，碩士學位
1990.07－1994.06 四川大學，無機材料專業，學士學位
工作履歷
1994.07－1996.08 四川什化集團，助理工程師
1999.07－今 電子科技大學，教師
獲獎記錄
2002年，四川省科技進步三等獎，排名2
2002年，成都市科技進步二等獎，排名2
2003年，國防科學技術三等獎，排名2
2012年，教育部科技進步二等獎，排名1
研究方向
1、結構—功能一體化集成敏感薄膜材料與感測器
採用薄膜技術，將功能敏感薄膜材料直接沉積在結構材料表面，再通過掩模或光刻圖形化技術，在結構材料表面構成一種新型的、具有結構和感知功能一體化集成的薄膜感測器。該結構——功能一體化集成敏感薄膜材料一般由過渡層、熱生長氧化層、絕緣層、敏感層、保護層五層薄膜構成。主要套用於航空發動機渦輪葉片、燃燒室內壁、槍炮膛內壁、內燃機活塞頂面和燃燒室內壁、切削刀具表面、飛行器表面等應變、溫度、壓力、風速等狀態參數的測試。
2、集成含能反應多層膜及火工品器件
採用薄膜技術，將點火材料、電爆炸材料、含能材料等沉積在陶瓷基片表面，再通過光刻圖形化技術，實現點火橋、衝擊片雷管等火工品的薄膜化、小型化，提高火工品的能量轉換效率、提高可靠性、一致性、穩定性。主要套用於火箭、飛彈、衛星等系統和裝備的點火裝置。
主要貢獻
已培養碩士研究生10人，協助指導博士研究生2人。主要從事電子薄膜與器件、發動機用集成敏感薄膜材料及感測器、集成火工品薄膜及器件、航空光學薄膜及器件等領域的研究工作。作為項目負責人主持完成了省部級、完成了橫向合作項目等10餘項。目前正主持承擔包括總裝創新、總裝預研、橫向合作等項目5項。在App. Phy.Lett.,J.Magn. Magn. Mater.，IEE.Tran.Magn.，Mater.Sci.Forum，Chin.Phy.Lett.，J.Mater.Sci.Tech.，Phsica B，Modern Phys. Lett., Functional Mater. Lett.,等國內外核心刊物發表學術論文50餘篇，其中SCI收錄30篇，EI收錄20篇。獲國防發明專利授權2項，國家發明專利授權5項，獲省、部二等獎1項，三等獎2項。
學術成果
1、代表性論文
[1] H.C. Jiang, X.Si, W.L. Zhang, Wang C.J., B.Peng, Y.R.Li, Microwave Power Thin Film Resistors for High Frequency and High Power Load Applications, Appl. Phys. Lett.,2010,97:173504.
[2] H.C. Jiang, C.J.Wang, W.L. Zhang, X.Si, Composition control and its electric properties of TaNx thin films，Modern Physics Letters B, 2010,24（9）：905-910.
[3] H.C. Jiang, C.J.Wang, W.L. Zhang, X.Si, Microstructure and electrical properties of Al/TaNx multilayers，Functional Materials Letters，2010,3（2）：131-133.
[4] H.C. Jiang, C.J.Wang, W.L. Zhang, X.Si，Influences of the film thickness on the electrical properties of TaNx thin films deposited by reactive DC magnetron sputtering，Journal of Materials Science & Technology，2010,26（7）：597-600.
[9] H.C. Jiang, W.L. Zhang, W.X. Zhang, B. Peng, Effects of sputtering pressure on structure and magnetic properties of amorphous TbFe magnetostrictive films, Physica B, 2010,405,834-838.
[10]JIANG Hong-Chuan, ZHANG Wan-Li, ZHANG Wen-Xu, PENG Bin Composition-controlled low field magnetostriction of TbFe amorphous films, Chinese Physics Letters, 2008，25（4）,1435-1437.
[11] Jiang Hong-Chuan, Zhang Jin-Ping, Zhang Wan-Li, Peng Bin, Zhang Wen-Xu, Yang Shi-Qing, Zhang Huai-Wu, Effects of rapid cycle annealing temperature on TbFe magnetostrictive films, Chinese Physics Letters, 2004，21（8）,1624-1627
[12] H.C. Jiang, W.L. Zhang, B. Peng，W.X. Zhang, S.Q.Yang, Obliquely-sputtered TbFe giant magnetostrictive films with in-plane anisotropy，IEEE Trans. Magn, 2005, 41(4), 1222-1225
[13] H.C. Jiang, W.L. Zhang, B. Peng，etc ，The influences of depositing angles on TbFe film magnetic and magnetostrictive characteristics, Material Science Forum, 2005, Vol.475-479, 3757-3760
[14] H.C. Jiang, W.L.Zhang, J.P.Zhang, W.X.Zhang, B. Peng，S.Q.Yang, The influences of solution PH and current density on coercivity of electroplating CoNdNiMnP permanent magnetic alloy film arrays, ACTA METALLURGICA SINICA, 2004,17(5), 677-681
[15] Jiang, Hongchuan, Zhang, Wanli, Zhang Wenxu, Peng, Bin, Yang, Shiqing, Fabrication of hydrogen resistance coatings on NdFeB alloy permanent magnets, Rare Metal Materials and Engineering, 2004,33(11), 218-220
[16] Hongchuan JIANG, Wanli ZHANG, Wenxu ZHANG, Shiqing YANG, Huaiwu ZHANG, Influences of sputtering angles and annealing temperatures on the magnetic and magnetostrictive performances of TbFe films, J. Mater. Sci. Technol.,2005,21(2),315-318
[17] H.C. Jiang, W.L.Zhang, J.P.Zhang, W.X.Zhang, B. Peng，S.Q.Yang, The influence of neodymium content on electroplating CoNdNiMnP film magnetic characteristics, ACTA METALLURGICA SINICA,2005,18(2),149-152
2、授權發明專利
（1）一種粘接稀土永磁材料阻氫塗層的製備方法，ZL01101013.4，2001，排名1；
（2）一種燒結稀土永磁材料阻氫塗層的製備方法，ZL00114792.7，2000，排名2；
（3）一種金屬基薄膜熱電偶及其生產方法，ZL201010227212.5，2011，排名1；
（4）在合金基板上設定薄膜感測器的方法，ZL201110123372.X，2012，排名1；
（5）一種高頻大功率微波薄膜電阻器，ZL200910167923.5，2013，排名1；
