苟富均，漢族，1969年11月出生於四川成都，博士，教授，長期致力於電漿與材料表面相互作用的動力學過程的實驗研究和基礎理論研究工作。
基本介紹
- 中文名：苟富均
- 民族：漢族
- 出生地：四川成都
- 出生日期：1969年11月
人物經歷,代表性論文,
人物經歷
2000-2009年期間留學英國、荷蘭和比利時。在電漿複雜環境下，材料表面發生的各種物理、化學反應機理的計算機模擬、濺射沉積多層薄膜機理的計算機模擬等方面取得創新性研究成果。個人論著撰寫英文專著:dynamics of plasma-surface interaction等2部。在International Review of Physical Chemistry, PCCP, Journal of Applied Physics, Surface Science, Applied Surface Science，Applied Physics A, Thin Solid Films, Journal of Vacuum Science and Technology，物理學報，真空科學與技術等國內外著名期刊上共發表研究論文40餘篇。英文雜誌The Open Surface Science Journal 編委。國際知名英文雜誌Surface Science 和Journal of Nuclear Materials，Applied surface science, Journal of Applied Physics的審稿人。
代表性論文
[1] F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, Theoretical modeling of energy redistribution and stereodynamics in CFscattering from Si (100) under grazing incidence, Phys. Chem. Chem. Phys. 8, 5522 (2006)
[2] F. Gou, Molecular dynamics simulation of deposition and etching of Si bombarding by energetic SiF, Applied Surface Science 253, 5467（2007）
[3] F. Gou, A. Gleeson, A. W. Kleyn, MD Simulation of 3keV Ar Grazing Scattering from Si, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B247, 244 (2006)
[4] F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, CH3 interaction with Si (100)-(2x1): Molecular Dynamics Simulation, Surface Science 601, 3965 (2007)
[5] F. Gou, A. Gleeson, A. W. Kleyn，The application of molecular dynamics to the study of plasma-surface interactions: CFx with silicon, International Review of Physical Chemistry 27, 229-271 (2008)
[6] F. Gou, S. Tink, E. Neyts, A. Boargart, Molecular Dynamics Simulations of Cl Etching on a Si(100) Surface, Journal of Applied Physics. Accepted
