色譜分析超純水機使用水中含有各種雜質,如懸浮物、有機物和無機物。
概述,色譜分析超純水機工藝,產水的PH測定影響因素,色譜分析超純水機套用領域,
概述
為了確保系統中反滲透預除鹽部分的正常運轉,必須先去除水中的懸浮物、膠體、有機物等,使反滲透的進水達到要求,故本系統設定原水預處理部分。原水預處理部分包括機械濾器、活性炭濾器、軟化器、保全濾器、PH加藥等裝置。
色譜分析超純水機工藝
色譜分析超純水機超純水系統根據不同的源水水質採用不同的工藝。一般自來水經一級反滲透系統處理後,產水電導率<10-20μS/cm,經二級反滲透系統後產水電導率<5μS/cm甚至更低,在反滲透系統後輔以離子交換設備或EDI設備可以製備超純水,使電阻率高達18兆歐姆.厘米)。 反滲透膜老化或受污染後,產水質量會下降。
產水的PH測定影響因素
1、不同溶液接觸時,其界面會產生電勢,俗稱接界電位E6。接界電位的穩定與否,直接影響 pH 測量的穩定性。再者,接界面積越小,則接界電位越大,越易造成測量的困難。因此純水 pH 測量,必須採用大接界面的電極,同時保持接界面流速恆定且小,這樣才能保證穩定的接界面!而傳統的加KCL溶液電極,陶瓷芯截面很小,這樣接界電位就很大,而若改為磨砂口或增加陶瓷芯,KCL溶液又大量滲透而污染溶液,這種電極是不適宜測純水的!
2、高純水的導電性很差,容易受到外界電磁場干擾,同時流動過程中,極易產生靜電、聲場等,影響測量穩定性和準確性。因此純水pH值的測量必須採用低阻敏感膜電極,這樣可以有效降低靜電、磁場、聲場的干擾,同時又使電極回響靈敏。
色譜分析超純水機套用領域
單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體晶片、半導體封裝 、引線櫃架、積體電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔淨產品及各種元器件等生產工藝用純水。
食品工業用水:飲用純淨水、礦泉水、資料、啤酒、乳業等。
海水、苦鹹水淡化:海島、艦船、高鹽鹼地區生活用水改善。
樓宇、社區優質供水:星級賓館、機場、房產物業純水網路系統等。
化工行業工藝用水:化工冷卻、化肥、化學藥劑製造。
工業產品製造用水:汽車、家電塗裝、塗料、油漆、精細加工清洗等。