胡純棟

胡純棟，男、1963年生，博士，中國科學技術大學合肥物質科學研究院研究員、博士生導師，中國科學院電漿物理研究所託卡馬克實驗室室務委員。

基本介紹

• 中文名：胡純棟
• 出生日期：1963年
• 畢業院校：山東大學
• 學位/學歷：博士
• 專業方向：中性束加熱
• 職務：中國科學院電漿物理研究所託卡馬克實驗室室務委員
• 任職院校：中國科學技術大學合肥物質科學研究院
• 職稱：中國科學技術大學合肥物質科學研究院研究員

人物經歷

1984年畢業於山東大學物理學，在電漿所先後獲得碩士和博士學位，

曾在德國伽興電漿所從事負離子源和中性束的研究，美國通用原子公司DIII－D裝置上進行中性束的研究。

研究方向

1、中性束加熱

2、離子束技術

3、電漿物理實驗

科研項目

作為研究室室務委員，承擔了國家攻關項目，國家自然科學基金面上項目、院創新項目等，與國外學術界有廣泛的聯繫和學術合作。