德國KSI公司的超音波掃描顯微鏡（掃描頻率最高可以達到2G）。 其主要是針對半導體器件 ,晶片，材料內部的失效分析。其可以檢查到：1。材料內部的晶格結構，雜質顆粒，夾雜物，沉澱物，2. 內部裂紋。 3.分層缺陷。4.空洞，氣泡，空隙等。
基本介紹
- 中文名：聲掃描顯微鏡
- 掃描頻率：2G
- 檢查：材料內部的晶格結構，雜質顆粒
- 套用：電子工業
儀器特點,主要套用範圍,性能參數,
儀器特點
以下為C-SAM的一些說明：
聲掃顯微鏡
聲掃顯微鏡近年來，超音波掃描顯微鏡（C-SAM）已被成功地套用在電子工業，尤其是封裝技術研究及實驗室之中。由於超音波具有不用拆除組件外部封裝之非破壞性檢測能力，故C-SAM可以有效的檢出IC構裝中因水氣或熱能所造成的破壞如﹕脫層、氣孔及裂縫…等。 超音波在行經介質時，若遇到不同密度或彈性係數之物質時，即會產生反射回波。而此種反射回波強度會因材料密度不同而有所差異.C-SAM即最利用此特性來檢出材料內部的缺陷並依所接收之訊號變化將之成像。因此，只要被檢測的IC上表面或內部晶片構裝材料的接口有脫層、氣孔、裂縫…等缺陷時，即可由C-SAM影像得知缺陷之相對位置。
C-SAM服務
超音波掃描顯微鏡(C-SAM)主要使用於封裝內部結構的分析，因為它能提供IC封裝因水氣或熱能所造成破壞分析，例如裂縫、空洞和脫層。
聲掃顯微鏡工作示意圖
聲掃顯微鏡工作示意圖C-SAM內部造影原理為電能經由聚焦轉換鏡產生超音波觸擊在待測物品上，將聲波在不同接口上反射或穿透訊號接收後影像處理，再以影像及訊號加以分析。
C-SAM可以在不需破壞封裝的情況下探測到脫層、空洞和裂縫，且擁有類似X-Ray的穿透功能，並可以找出問題發生的位置和提供接口數據，是互補的兩種設備。
主要套用範圍
· 晶元面處脫層
· 錫球、晶元、或填膠中之裂縫
· 晶元傾斜
· 各種可能之孔洞（晶元接合面、錫球、填膠…等）
· 覆晶構裝之分析
德國KSI聲掃描顯微鏡C-SAM(SAT)世界最先進的機器
V-400E 聲掃描顯微鏡
1～500MHz
● 非破壞性材料內部結構測試
● 快速的超音波頻率設定
● 全新的操作軟體簡單易用
● 緊湊的模組化設計
● 廣泛套用於半導體工業，材料測試，生命科學等領域
非破壞性失效分析：
視覺效果 定量分析 自動控制
－3D形貌再現
－同時觀察多個層面
－顯示樣品的機械性能（硬度，密度，壓力等）
－實時超音波飛時圖表（A-Scan）
－縱向截面圖像（B-Scan）
－XY圖像（C-Scan, D-Scan, 自動掃描, 多層掃描）
－第二個監視器便於圖像的觀察和操作 －失效統計
－柱狀圖顯示
－長度測量
－膜厚測量
－多方式圖像處理
－超音波傳輸時間測量
－無損傷深度測量
－數位訊號分析
－相位測量 －自動XYZ掃描
－自動存儲儀器參數
－運用分層運算方法進行自動失效鑑別
－自動濾波參數設定
－換能器自動聚焦
