《綜合孔徑成像原理與套用》介紹了綜合孔徑成像技術的發展現狀和基本原理，詳細闡述了光學綜合孔徑成像系統和被動毫米波綜合孔徑成像系統的三個關鍵問題：陣列設計與最佳化，相位誤差和校正，圖像重構和復原等，並給出了相應的實驗驗證系統。綜合孔徑成像技術是指對多個小口徑成像系統進行綜合處理，從而等效於一個大口徑成像系統的成像性能。目前其研究的工作波段覆蓋了從微波到被動輻射的全部波段，通過機載和星載平台，該技術已被廣泛套用於遙感與成像，射電天文學，環境、大氣和海洋監測等。
基本介紹
- 中文名：綜合孔徑成像原理與套用
- 出版社：國防工業出版社
- 頁數：238 頁
- 開本：32 開
- 作者：劉麗 江月松
- 出版日期：2013年7月1日
- 語種：簡體中文
- 品牌：國防工業出版社
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
《綜合孔徑成像原理與套用》是作者近幾年來從事綜合孔徑成像的相關科研工作的總結和凝練，目的是為在校研究生和從事綜合孔徑成像技術研究與套用的科研人員提供一本內容詳細的參考書。
圖書目錄
第1章 綜合孔徑成像技術導論
1.1 綜合孔徑成像技術概述
1.2 綜合孔徑成像技術原理
1.2.1 光學綜合孔徑成像原理
1.2.2 被動毫米波綜合孔徑成像原理
1.3 綜合孔徑成像技術發展現狀
1.3.1 光學綜合孔徑成像技術發展現狀
1.3.2 被動毫米波綜合孔徑成像技術發展現狀
1.4 綜合孔徑成像系統關鍵技術
1.4.1 陣列最佳化和設計
1.4.2 相位誤差和校正
1.4.3 圖像重構和圖像復原
第2章 綜合孔徑成像基礎
2.1 數學基礎
2.1.1 卷積和相關
2.1.2 傅立葉變換
2.1.3 線性系統分析
2.2 物理基礎
2.2.1 非相干光學成像系統
2.2.2 范西特一澤尼克定理
2.2.3 被動輻射測量基礎
第3章 光學綜合孔徑直接成像系統
3.1 基本原理
3.1.1 等效模型
3.1.2 特徵指標
3.2 陣列最佳化和設計
3.2.1 典型陣列結構
3.2.2 多圓周陣列結構
3.2.3 多圓周陣列的最佳化
3.3 相位誤差和校正
3.3.1 光束合成誤差分析
3.3.2 冗餘基線校正方法
3.3.3 一維RSC陣列的最佳化
3.3.4 圓周RSC陣列的最佳化
3.4 圖像復原
3.4.1 經典圖像復原法
3.4.2 圖像質量評價方法
3.4.3 維納濾波法在光學綜合孔徑中的套用
3.5 實驗研究
3.5.1 模擬實驗系統
3.5.2 望遠鏡光闌實驗
3.5.3 冗餘基線校正模板實驗
3.5.4 光學綜合孔徑遙感系統
3.6 本章小結
第4章 被動毫米波綜合孔徑成像系統
4.1 基本原理
4.1.1 被動綜合孔徑干涉成像原理
4.1.2 被動綜合孔徑光子成像原理
4.1.3 光子成像系統主要性能分析
4.2 陣列設計和最佳化
4.2.1 引言
4.2.2 最佳化基礎
4.2.3 最佳化準則
4.2.4 最佳化算法
4.2.5 最佳化結果
4.3 相位誤差和校正
4.3.1 閉合相位校正
4.3.2 載波干涉校正技術
4.3.3 基於光子晶體的全息相位校正技術
4.4 重構成像算法
4.4.1 引言
4.4.2 Gridding算法
4.4.3 CLEAN算法
4.5 實驗研究
4.5.1 基於光纖傳輸的二元干涉實驗
4.5.2 基於光纖傳輸的毫米波探測實驗
4.6 本章小結
第5章 綜合孔徑成像技術展望
5.1 被動綜合孔徑寬頻成像技術
5.2 被動毫米波直接電光調製技術
5.3 超解析度處理與多光譜融合技術
5.4 複合相位誤差測量與校正技術
5.5 多孔密瞳光學陣列
5.6 壓縮感知綜合孔徑成像技術
參考文獻
