納米電鍍

納米技術的基本概念：納米是一種長度單位，一納米為百萬分之一毫米(即10^-6毫米)，為一米的十億分之一(10^-9米)，略等於4 至5 個原子排列起來的長度。它正好處於原子、分子為代表的微觀世界和以人類活動空間為代表的巨觀世界的中間地帶，被稱為納米世界，也是物理、化學、材料、科學、生命科學以及信息科學發展的新領地。國際上把物質的粒徑在100 納米以下的微小結構稱為納米結構，這類材料稱為納米材料。納米材料中包含了若干個原子、分子， 使得人們可以在原子層面上進行材料和器件的設計和製備。在這種水平上對物質和材料進行研究處理的技術稱為納米技術。而現在電鍍大多是傳統方法， 隨著市場對電鍍鍍層質量和各種特性要求的提高，科益納米電鍍也就成為未來電鍍發展方向。

基本介紹

• 書名：納米電鍍
• ISBN：750259324
• 定價：58.0
• 出版社：化學工業

基本信息

書名:納米電鍍

圖書編號:1982141

作者:渡囗轍

出版日期:2008-01-01

版次: 1

開本:16開

簡介

現代電鍍技術已經高度先進化，在工業部門取得了廣泛的套用。從傳統的表面裝飾，到微電子工業上製備高功能材料或微觀結構體，迅猛的發展進程體現了電鍍技術成為現代前沿技術之一的巨大潛在性。

然而，電鍍技術的持續發展一直受薄弱的基礎理論所制約，製備所需性能的鍍層往往不得不依賴於嘗試法。儘管業以付出無數的努力，至今尚未能建立一個能被普遍接受的、與鍍層製備技術與控制相協調的理論。

本書介紹一個與傳統電鍍理論截然不同的鍍層微觀結構控制原理新概念，並以大量實驗結果來支持該理論的可靠性，最後給出所收集的大量電鍍金屬和合金的實驗數據，特彆強調微觀結構。

本書提供的資料庫特點，在於所選用的多數槽液體系簡單，不含添加劑。此外，襯底採用非晶態材料，消除襯底結構效應，還採用單晶襯底，以便研究外延生長現象。

目錄

第1章　鍍層微觀結構控制原理

1.1　引言

1.2　電鍍技術研究歷程

1.3　TMC和實用鍍層回顧

1.4　鍍層微觀結構控制原理

1.4.1　金屬學結構

1.4.2　表面形貌

1.4.3　晶粒大小

1.4.4　擇優取向

1.4.5　與襯底之間的結合和晶體學匹配

1.4.6　殘餘應力

1.4.7　異常形貌

參考文獻

第2章　電鍍層形成機制

2.1　電鍍層的形成

2.1.1　純金屬鍍層的初晶形核與生長階段

2.1.2　二元合金鍍層的結構

2.2　無電流鍍覆膜

2.2.1　化學鍍

2.2.2　浸鍍

2.2.3　接觸鍍

參考文獻

第3章　有機溶劑電鍍

3.1　引言

3.2　實驗方法

3.3　鍍液選擇

3.3.1　鍍層表面形貌

3.3.2　鍍層晶體結構

3.4　有機溶劑鍍鈷

3.4.1　晶粒細化效應

3.4.2　鍍層夾雜

3.4.3　溶劑分解產物與晶粒大小的關係

3.4.4　鈷鍍層的表面形貌

3.4.5　晶粒取向及其形成

參考文獻

第4章　鍍層顯微組織在熱處理中的變化

4.1　引言

4.2　介穩相和非平衡相向穩定晶體的轉化

4.3　非晶相向平衡相的轉變

參考文獻

第5章　鍍層巨觀結構控制與三維微觀結構製備

5.1　引言

5.2　鍍層巨觀結構控制

5.2.1　柱狀晶結構

5.2.2　細晶結構

5.2.3　非晶結構

5.2.4　單晶

5.2.5　疊層（ML）鍍層

5.2.6　晶相與非晶相交替疊層鍍層

5.2.7　外延疊層

5.2.8　非晶態/晶態梯度結構

5.2.9　複合鍍層

5.2.10　梯度複合鍍層

5.2.11　其他結構

5.3　三維微型體製備

參考文獻

第6章　鍍層分析方法

6.1　金屬襯底的結構

6.1.1　形變和退火織構

6.1.2　表面形變層

6.1.3　單晶襯底

6.1.4　多晶襯底的預處理方法

6.2　鍍層結構分析

6.2.1　XRD方法

6.2.2　TEM結構分析

6.3　晶粒大小測量

6.3.1　TEM直接觀測

6.3.2　X射線衍射法

6.4　表面形貌觀察

6.4.1　掃描電子顯微鏡SEM

6.4.2　TEM復型法

6.4.3　AFM觀察

6.4.4　表面輪廓儀測量

6.5　擇優取向測定

6.5.1　擇優取向定義及其描述

6.5.2　鍍層織構測定

參考文獻

第7章　鍍層微觀結構資料庫

7.1　引言

7.2　電鍍方法

7.2.1　電鍍規範

7.2.2　襯底材料

7.3　鍍層微觀結構觀察與測定方法

7.4　鍍層微觀組織資料庫

7.4.1　純金屬電鍍

7.4.1.1　鍍銀

7.4.1.2　鍍金

7.4.1.3　鍍鎘

7.4.1.4　鍍鈷

7.4.1.5　鍍鉻

7.4.1.6　鍍銅

7.4.1.7　鍍鐵

7.4.1.8　鍍鎳

7.4.1.9　鍍錫

7.4.1.10　鍍鋅

7.4.2　合金電鍍

7.4.2.1　Ag-Cd合金電鍍

7.4.2.2　Ag-Co合金電鍍

7.4.2.3　Ag-Cu合金電鍍

7.4.2.4　Ag-Sn合金電鍍

7.4.2.5　Ag-Zn合金電鍍

7.4.2.6　Al-Mn合金電鍍

7.4.2.7　Au-Cu合金電鍍

7.4.2.8　Au-Ni合金電鍍

7.4.2.9　Au-Pd合金電鍍

7.4.2.10　Au-Sn合金電鍍

7.4.2.11　Cd-Sn合金電鍍

7.4.2.12　Cd-Zn合金電鍍

7.4.2.13　Co-Cu合金電鍍

7.4.2.14　Co-Fe合金電鍍

7.4.2.15　Co-Mo合金電鍍

7.4.2.16　Co-Ni合金電鍍

7.4.2.17　Co-Sn合金電鍍

7.4.2.18　Co-W合金電鍍

7.4.2.19　Cr-H合金電鍍

7.4.2.20　Cu-Ni合金電鍍

7.4.2.21　Cu-Pb合金電鍍

7.4.2.22　Cu-Sb合金電鍍

7.4.2.23　Cu-Sn合金電鍍

7.4.2.24　Cu-Zn合金電鍍

7.4.2.25　Fe-Mo合金電鍍

7.4.2.26　Fe-Ni合金電鍍

7.4.2.27　Fe-W合金電鍍

7.4.2.28　Fe-Zn合金電鍍

7.4.2.29　In-Sn合金電鍍

7.4.2.30　Ni-B合金電鍍

7.4.2.31　Ni-Mo合金電鍍

7.4.2.32　Ni-P合金電鍍

7.4.2.33　Ni-S合金電鍍

7.4.2.34　Ni-Sn合金電鍍

7.4.2.35　Ni-W合金電鍍

7.4.2.36　Ni-Zn合金電鍍

7.4.2.37　Sn-Zn合金電鍍

7.4.3　化學鍍

7.4.3.1　化學鍍Ni-B

7.4.3.2　化學鍍Ni-P

7.4.4　置換鍍

7.4.4.1　置換鍍Ag

7.4.4.2　置換鍍Au

7.4.4.3　置換鍍Cd

7.4.4.4　置換鍍Cu

7.4.4.5　置換鍍Zn