《納米級CMOS超大規模積體電路可製造性設計》是2014年科學出版社出版的圖書,作者是美國Sandip Kundu、Aswin Sreedhar。
基本介紹
- 中文名:納米級CMOS超大規模積體電路可製造性設計
- 作者:(美)Sandip Kundu、Aswin Sreedhar
- 譯者:王昱陽、謝文遨
- 出版社:科學出版社
- 出版時間:2014年05月
- ISBN:9787030400345
《納米級CMOS超大規模積體電路可製造性設計》是2014年科學出版社出版的圖書,作者是美國Sandip Kundu、Aswin Sreedhar。
《納米級CMOS超大規模積體電路可製造性設計》是2014年科學出版社出版的圖書,作者是美國Sandip Kundu、Aswin Sreedhar。內容簡介本書內容包括:CMOSVLSI電路設計的技術趨勢;半導體製造技術;...
《納米CMOS積體電路——從基本原理到專用晶片實現》可作為高等院校電子科學與技術(包括微電子與光電子)、電子與信息工程、精密儀器與機械製造、自動化、計算機科學與技術等專業本科高年級學生和研究生有關納米積體電路設計與製造方面課程的教科書,也可作為從事這一領域及相關領域的工程技術人員的參考書。作者簡介 作者...
積體電路設計(Integrated circuit design, IC design),亦可稱之為超大規模積體電路設計(VLSI design),是指以積體電路、超大規模積體電路為目標的設計流程。積體電路設計涉及對電子器件(例如電晶體、電阻器、電容器等)、器件間互連線模型的建立。所有的器件和互連線都需安置在一塊半導體襯底材料之上,這些組件通過...
《CMOS數字積體電路:分析與設計(第3版)》是現代數字積體電路設計的理想教材和參考書。可供與積體電路設計領域有關的各電類專業的本科生和研究生使用,也可供從事積體電路設計、數字系統設計和VLSI設計等領域的工程師參考。圖書目錄 第1章 概論 第2章 MOS場效應管的製造 第3章 MOS日體管 第4章 用SPICE進行MOS...
《積體電路製程設計與工藝仿真》全書共12章,主要內容包括:常規集成平面工藝、集成工藝原理概要、超大規模集成工藝、一維工藝仿真綜述、工藝仿真互動設定、工藝仿真模型設定、工藝仿真模擬精度、一維工藝仿真實例、集成工藝二維仿真、二維工藝仿真實現、現代可製造性設計、可製造性設計理念,並提供電子課件和習題解答。目錄 緒...
長期從事CMOS先導工藝技術研究,取得了多項代表國家IC工藝研究水平的成果,是國內最早研製出霍爾電路和VDMOS器件的單位。在國家“六五”科技攻關中,出色地完成了4KDRAM、16KDRAM和64KDRAM的研製;在國家“七五”科技攻關中,完成了“定製、半定製積體電路設計與製造”、“1~1.5μm新工藝、新器件”結構的探索性研究...
本書介紹CMOS數字大規模積體電路與系統設計的基礎。 全書分為三部分。 第1部分介紹積體電路的邏輯與物理層設計, 其中包括CMOS靜態門的邏輯設計與信號控制, 晶片生產與製造工藝, 版圖設計與CAD工具。 第2部分討論CMOS電子電路, 介紹MOSFET的特性和開關模型, 各類邏輯電路,包括高速CMOS邏輯電路,同時介紹分析邏輯鏈...
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