納米壓印是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器,於2015年06月30日啟用。
基本介紹
- 中文名:納米壓印
- 產地:瑞典
- 學科領域:工程與技術科學基礎學科
- 啟用日期:2015年06月30日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
納米壓印是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器,於2015年06月30日啟用。
納米壓印技術分為三個步驟。第一步是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段,在矽或其他襯底上加工出所需要的結構作為模板。由於電子的衍射極限遠小於光子,因此可以達到遠高於光刻的解析度。第二步是圖樣的轉移。在待加工的材料表面塗上...
納米壓印技術按模板特性主要可分為軟壓印、熱壓印及分步式模壓曝光三種工藝。以下對幾種最新出現的納米壓印工藝進行簡單介紹。滾軸壓印 2009年,L. J.Guo等人報導了一種新的壓印工藝一大面積滾軸壓印工藝。該工藝有卷對卷和卷對板兩種...
於20世紀90年代中葉誕生的納米壓印(naIloimprim limography,NIL)技術,最近被國外稱為“將改變世界的十大新興技術”之一。NIL技術的概念可說是源自於我們日常生活中蓋印章的行為,此動作可將原來在印章上的圖形壓印到另外一件物體表面上...
納米壓印技術是華裔科學家美國普林斯頓大學周郁在20世紀1995年首先提出的。目前,這項技術最先進的程度已經達到5nm以下的水平。納米壓印技術主要包括熱壓印(HEL),極紫外壓印(UV-NIL)(包括進一閃光印(S-FIL)),微接觸印刷。納米...
納米壓印機是一種用於物理學領域的儀器,於2013年9月26日啟用。技術指標 1.主機(含熱壓印功能)Eitre3Model電源220v,單相,可程式PLC精確控制溫度、壓力和時間,閉環反饋系統保證最高精度。2.UV紫外曝光模組UVheadmodule紫外曝光壓印,...
《納米壓印技術 》是電子工業出版社 出版的圖書,作者:孫洪文。內容簡介 《納米壓印技術》詳細介紹了納米壓印及相關技術的工藝、原理、仿真、套用和展望。納米壓印技術是在納米尺度獲得複製結構的一種成本低而速度快的方法,它可以大批量...
納米壓印主要套用於微納米結構的低成本、高精度以及大規模的製備。納米壓印技術直接利用機械力將模板上的圖形轉移到壓印膠上,其圖形解析度只與模板有關,所以在理論上利用納米壓印技術製備微納圖形可以突破光學光刻最短曝光波長的物理極限,...
《新型複合納米壓印技術與套用》是依託南京大學,由葛海雄擔任項目負責人的重大研究計畫。項目摘要 本項目將發展一種新型的複合納米壓印技術,該技術的核心是通過一種由彈性支撐層與剛性結構層組成的新型壓印模板,把納米壓印技術的高解析度、...
ABM納米壓印光刻系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年12月12日啟用。技術指標 1.6英寸光源系統 2.可支持2“,3”,4“,6”(圓/方片)及碎片光刻 3.手動系統,半自動系統 4.配備近紫外光源350系統Watt,配備抗衍射鏡...
《有機鐵電材料的納米壓印加工及套用研究》是依託復旦大學,由劉冉擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 利用納米壓印技術製備高性能、可重複、低成本的有機納米鐵電多功能結構是開發高密度OFeRAM、OFET、ONEMS等有機電子器件是一個十分重要...
電化學器件納米壓印設備是一種用於化學、材料科學領域的科學儀器,於2017年9月26日啟用。技術指標 壓印壓力範圍:0至3.45 MPa 壓印空間≧Ø 100 mm 壓印腔真空度 < 1 Torr 紫外壓印 - UV LED燈壽命:10000-15000小時工作時間。...
圖形轉換及納米壓印系統 圖形轉換及納米壓印系統是一種用於化學、環境科學技術及資源科學技術領域的科學儀器,於2017年8月24日啟用。技術指標 分辨0.8um。主要功能 紫外曝光。
《基於納米壓印技術類多孔陽級氧化鋁納米結構LED的研究》是依託華中科技大學,由徐智謀擔任項目負責人的面上項目。中文摘要 研究自主創新的大功率納米結構發光二極體(LED)晶片技術,對解決國外專利封鎖具有積極意義。實現納米結構LED器件的最大...
深圳市納米壓印技術重點實驗室 深圳市納米壓印技術重點實驗室是南方科技大學的實驗室。
滾型納米壓印模具變形機理 滾型納米壓印是一種高效、低成本批量化製造大面積微納米結構的方法,已經被看成是最具有工業化套用前景的微納米製造方法之一,同時也被認為是實現納米壓印技術從實驗室到工業化套用的一個重要突破口。開展滾型...
研究包括:納米壓印光刻工藝研究;微流控光學器件與系統研究;微流控光功能器件套用技術。光電化學輔助材料是光電產業重要的支撐材料之一,其質量的好壞,直接影響到光電子產品的質量和產品的製造技術。光化學輔助材料合成與套用方向主要研究...
自2001年以來,開展了微納米製造技術的研究,在納米壓印光刻技術工藝和裝備技術基礎的研究方面取得了國內外認可的研究成果;將微納米製造技術拓展到光電子製造領域,在新型大面積平板顯示器、高效有機柔性基太陽能電池、納米晶複合電池、集成...
2001年,他在國際上首次採用納米壓印加工技術製備出T型柵並於次年發表了用納米壓印製備的高電子遷移率電晶體的學術論文。他於2003年被英國盧瑟福-阿普爾頓實驗室的微結構中心主任Ron Rawes教授聘為納米技術高級科學家(Senior Scientist),在...
按光柵類型的不同主要分為全息光柵波導(VHG)和表面浮雕光柵波導(SRG)兩種。全息光柵波導中的光柵為全息體光柵,主要採用干涉光刻的加工工藝進行製備;表面浮雕光柵波導中的光柵為表面浮雕光柵,主要採用納米壓印的加工工藝進行製備。工藝 ...
2004年3月,與遲力峰教授一起在吉林大學的超分子結構與材料教育部重點實驗室(現超分子結構與材料國家重點實驗室)組建了“納米壓印與組裝功能體系”研究組,進行納米壓印與組裝功能體系的研究,率先在國內開展納米壓印與超分子體系相結合的...
2. 對全息光刻和納米壓印技術製作200nm周期光柵掩模的方法進行了系統的研究。在全息光刻中,通過提高幹涉條紋的穩定性、分析干涉條紋的對比度以及控制曝光顯影條件製作出了合格的光柵掩模。在納米壓印方法中,通過引入中間柔性印模,將紫外固...
首先基於光刻和納米壓印的方法,利用濕法刻蝕在單晶矽表面製備微米尺度的有序結構;然後通過水熱合成方法在微米有序結構表面生長ZnO納米結構,從而得到三維微納結構;再結合實驗與理論模擬,研究並揭示三維微納結構尺寸、周期等結構特徵與其抗...
(2)納米光子材料與器件(超材料與大光柵)(3)微納直寫技術及套用(大幅面微納混合光刻系統)(4)柔性納米壓印技術與器件 (42寸柔性電容觸控感測器)重大科研成果產出:(1)微納製造技術與設備:原創性成果。在“大幅面微納混合...