紅外成像分析系統是一種用於林學、材料科學領域的分析儀器，於2018年12月29日啟用。
基本介紹
- 中文名：紅外成像分析系統
- 產地：美國
- 學科領域：林學、材料科學
- 啟用日期：2018年12月29日
- 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 光譜成像儀
技術指標,主要功能,
技術指標
1. 主體光路設計：非一體機設計，由用於常規常量樣品分析的紅外光譜主機及顯微成像兩部分組成，光源及干涉儀均放置於紅外光譜主機內。2.光譜範圍4000-350cm-1顯微成像系統：4000-710cm-1(成像模式)，4000-600cm-1(單點顯微鏡模式)3.解析度:主機光譜解析度優於0.4cm-1；成像空間解析度：標配6.25μm，25μm，50μm三檔軟體自由選擇。配有成像ATR附屬檔案，解析度1.56μm。
主要功能
紅外顯微鏡由傅立葉變換紅外主機和紅外顯微系統構成，紅外干涉光進入紅外顯微鏡系統，經過聚焦鏡聚焦在樣品上，通過光闌的紅外光傳輸到轉換鏡照射到檢測器的聚焦鏡上，信號再聚焦到顯微鏡的專用檢測器上，經過信號處理器處理得到紅外頻譜圖。該儀器可以實現對樣品進行：微量定性分析、微區成分分布分析、分辨不同成分的光譜信號、提高未知物檢測能力、用於常規及微區非金屬材料的分析，進而為非均勻、共混的非金屬材料及複合材料的鑑定提供強有力的手段。
