《精密光學製造的中高頻誤差分析與控制》是依託中國人民解放軍國防科技大學，由戴一帆擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：精密光學製造的中高頻誤差分析與控制
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：戴一帆
- 依託單位：中國人民解放軍國防科技大學
- 支持經費：28（萬元）
- 研究期限：2008-01-01 至 2010-12-31
- 負責人職稱：教授
- 申請代碼：E0509
- 批准號：50775215
中文摘要
現代光學技術的發展，要求精密光學零件的加工不但要很好控制表面形狀和粗糙度誤差，而且要嚴格控制中高頻成份的誤差，因為這些誤差會對精密光學系統的光學性能帶來極大的影響。這一要求對現代光學製造特別是非球面光學零件製造提出了新的挑戰。本項目在多年研究確定性研拋技術的基礎上，利用小波分析方法，研究製造過程的中高頻誤差演變和發展規律，並基於Harvey-Shack散射理論建立製造誤差和光學性能的映射關係。提出確定性研拋材料去除有效率的概念，研究不同拋光去除函式的表面機械回響特性，掌握拋光模的各參數（如束徑、能量、壓力、速度、作用時間等）對不同頻率成份誤差的影響規律，達到最終合理控制各頻率成份誤差特別是中高頻誤差的目的。最後研究精密光學製造的最佳化工藝路線，利用CCOS、MRF、IBF等現代加工手段，及其對各頻率成份誤差控制能力的不同，形成精密光學零件製造的合理工藝路線。
