籠型聚倍半矽氧烷,英文名稱polyhedral oligomeric silsesquioxane,簡稱POSS,通式 (RSiO3/2)n,其中R為八個頂角Si原子所連線基團。20世紀90年代中期,美國空軍研究實驗室(Air Force Research Lab,簡稱AFRL)推進技術委員會為了滿足空軍對新一代超輕、高性能聚合物材料的需要,發展了一種多面體低聚倍半矽氧烷的納米結構雜化體系。POSS是由Si-O交替連線的矽氧骨架組成的無機核心,在其八個頂角上Si原子所連線的基團R可以為反應性或者惰性基團。
基本介紹
- 中文名:籠型聚倍半矽氧烷
- 外文名:polyhedral oligomeric
- 類型:化學物質
- 簡稱:POSS
種類
結構與性能
- 籠型框架
POSS的籠型框架結構使得其具有良好的介電性和光學性能,在增韌方面,POSS納米粒子能終止微裂紋尖端的發展,並能引發銀紋或者剪下帶或者分子鏈重新排列,“籠子”的彈性能夠起到類似“彈珠”的作用。 - 無機核心
Si-O交替連線的矽氧骨架組成的無機核心,能抑制聚合物分子的鏈運動而賦予雜化材料良好的熱穩定性、力學性能和阻燃性。Si-O鍵能為445.2KJ/mol,相比之下C-C鍵能為350.7KJ/mol,C-O鍵能為359.1KJ/mol,因此要想破壞POSS核心中的鍵所需能量較大。 - 納米尺度
POSS的三維尺寸均處於納米尺度範圍內,是典型的納米化合物,具備有納米粒子小尺寸效應,表面與界面效應,量子尺寸效應,巨觀量子隧道效應,從而具備較強綜合性能。 - R基多變
POSS在聚合物中的套用主要取決於R基,R基可以為反應性的基團,如烯基、環氧基、氨基等等,可以通過反應性的R基來與聚合物之間發生接枝或者聚合反應,從而產生聚合物之間化學鍵合作用,引入POSS基,實現分子層上的均勻分散,提高聚合物性能。當R基為惰性基團,如烷基、亞烴基、芳基等等,可以調節POSS納米結構與聚合物之間的相容性。