等離子增強化學氣相鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年9月23日啟用。
基本介紹
- 中文名:等離子增強化學氣相鍍膜機
- 產地:日本
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2011年9月23日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
用化學氣相沉積方法製備SiOx和SiNx薄膜,薄膜厚度均勻性優於5%。
主要功能
使氣體電離為電漿後反應沉積於基片上生成薄膜的真空鍍膜設備。
等離子增強化學氣相鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年9月23日啟用。
等離子增強化學氣相鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年9月23日啟用。技術指標用化學氣相沉積方法製備SiOx和SiNx薄膜,薄膜厚度均勻性優於5%。1主要功能使氣體電離為電漿後反應沉積於基片上生成...
電漿增強化學氣相沉積鍍膜機是一種用於化學領域的工藝試驗儀器,於2019年12月6日啟用。技術指標 使用襯底尺寸200mm*200mm;襯底溫度最高為350℃,溫度均勻性正負5℃;可用於沉積SiO2,SiNx薄膜;薄膜均勻性正負5%;可接入6路工藝氣體...
基於等離子表面工程的類金剛石塗層沉積技術(PIID),是等離子增強化學氣相沉積PECVD技術的一種,該技術是美國西南研究院經過多年研製開發出來的一種新技術。利用PIID技術可以製備出類金剛石塗層,簡稱DLC塗層,DLC塗層可以顯著降低工件表面的...
pressure CVD,APCVD)、低壓化學氣相沉積(Low pressure CVD,LPCVD)、超高真空化學氣相沉積(Ultrahigh vacuum CVD,UHVCVD)、雷射化學氣相沉積(Laser CVD,LCVD)、金屬有機物化學氣相沉積(Metal-organic CVD,MOCVD),等離子體增強化學氣相...
Denton電子束蒸發鍍膜設備 Denton多靶磁控濺射鍍膜系統 HARRICK等離子清洗機 微納圖形加工設備 Zeiss Auriga場發射電子束/聚焦離子束雙束系統 測試設備 KLA-Tencor P7 台階儀 薄膜II區 薄膜沉積設備 Oxford 電漿增強化學氣相沉積系統 刻...