第二屆國際先進光刻技術研討會是於2018年10月18-19日，在福建廈門舉辦的國際會議。
基本介紹
- 中文名：第二屆國際先進光刻技術研討會
- 地點：福建廈門
- 會議類型：國際會議
- 舉辦時間 ：2018年10月18日-19日
組織機構,會議簡介,
組織機構
中國科學院微電子研究所 & 廈門半導體投資集團有限公司 |
會議簡介
近年來，中國積體電路產業蓬勃發展，基於這樣的形勢，國際先進光刻技術研討會（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員等提供了一個技術交流平台，參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計最佳化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討面臨的技術挑戰。
作為國內唯一的高端光刻技術研討會，其發言者均為特邀自光刻及其相關領域的國內外資深專家，代表了其所在領域的國際先進水平。報告內容涉及廣泛，涵蓋了當前的技術現狀、未來的發展趨勢以及面臨的挑戰等。該研討會旨在為與會者提供一個深入討論的互動平台，也為想要了解更多國內外半導體業界動態的研究者和工程師提供更多機會。
