《積體電路掩模設計》是2006年1月清華大學出版社出版的圖書，作者是塞因特。
基本介紹
- 作者：塞因特
- ISBN：9787302108603
- 頁數：435
- 定價：59.00元
- 出版社：】 清華大學出版社
- 出版時間：2006-1
- 裝幀：簡裝本
- 副標題：基礎版圖技術
內容介紹,出版背景,
內容介紹
《積體電路掩模設計:基礎版圖技術》(翻譯版)的譯者曾在美國留學執教多年，後在清華大學微電子所任教，長期從事IC設計的研究和授課工作，作為國內IC設計領域的頂尖講師，譯筆流暢生動，既通俗易讀，又保持原書風味，幫助您更加輕鬆愉快地掌握積體電路的掩模設計，激發您對於版圖設計工作的熱情！現在您可以輕輕鬆鬆，興致盎然地學習和掌握積體電路版圖設計了！
出版背景
《積體電路掩模設計:基礎版圖技術》(翻譯版)作者Christopher Saint,IBM的頂尖講師之一，以輕鬆幽默的文筆為讀者提供了一本圖文並茂、實用易讀的版圖設計參考書，自下而上，由淺入深地構造了設計理念，毫無保留地講述了從最初版圖設計到最終仿真的方方面面。內容覆蓋了模擬電路、數字電路、標準單元、高頻電路、雙極型和射頻積體電路的版圖設計技術，討論了版圖設計中有關匹配、寄生參數、噪聲、布局、驗證、封裝等問題及數據格式，最後還提代了兩個實際的例子，CMOS放大器與雙極型混頻器的版圖設計。
