稀土摻雜III族納米氮化物稀磁半導體的製備與高壓研究

稀土摻雜III族納米氮化物稀磁半導體的製備與高壓研究

《稀土摻雜III族納米氮化物稀磁半導體的製備與高壓研究》是依託吉林大學,由崔啟良擔任項目負責人的面上項目。

基本介紹

  • 中文名:稀土摻雜III族納米氮化物稀磁半導體的製備與高壓研究
  • 項目類別:面上項目
  • 項目負責人:崔啟良
  • 依託單位:吉林大學
項目摘要,結題摘要,

項目摘要

稀磁半導體(DMS)是能同時利用載流子的自旋和電荷兩種自由度將磁、電集於一體的半導體。最近人們發現在一些半導體材料中摻入非磁性雜質也具有鐵磁性,並有可能具有很高的轉變溫度(Tc),這為尋找室溫自旋電子學材料開闢了一條新的途徑。目前DMS的研究多局限在薄膜上,對其納米材料的製備與研究還少有報導,而且人們對這類材料中磁性起源的認識並不充分。本項目擬在已有稀土摻雜AlN室溫稀磁半導體納米晶研究工作的基礎上,對稀土元素摻雜III族納米氮化物稀磁半導體的製備與性質進行系統地研究,弄清不同稀土摻雜、同種摻雜不同濃度和基質材料的不同納米結構和形貌等對其光、電和稀磁性等物理性質的影響規律,探索這類材料中磁性來源的普適性;利用壓力有效改變物質性質的優勢,採用金剛石壓砧高壓實驗技術,研究這類材料在高壓下的結構、光學和磁性變化規律,探索利用壓力對其物理性質進行調控的可能性,為製備高Tc的稀磁半導體提供實驗依據。

結題摘要

建立了利用直流電弧電漿製備稀土摻雜III族納米氮化物稀磁半導體的新方法,製備出多種奇異形貌和低維結構的稀土摻雜III族納米氮化物稀磁半導體。包括:AlN:Sc單邊梳結構,AlN:Sc雙邊以及六重對稱納米結構,AlN:Y準陣列微米棒狀結構,AlN:Y納米線,AlN:Y梭形納米顆粒等。對這些納米結構的生長機制、光學特性進行了系統地研究。分析了它們的磁性來源,探討了摻雜濃度對於磁性的影響;並通過計算不同摻雜濃度下不同數目空位的形成能,探索和驗證製備新型稀磁半導體材料的可行性途徑。在稀土摻雜AlN:Sc和AlN:Y納米六稜柱以及納米線的原位角散高壓同步輻射X射線衍射研究中發現,他們均在較低壓力下,發生由六方纖鋅礦結構向立方岩鹽礦結構的相變,相變過程不可逆。分析了摻雜離子濃度、半徑大小對相變壓力的影響原因,總結出稀土摻雜AlN納米材料在高壓下的結構相變規律。利用直流電弧電漿方法製備出AlN:Co納米線,AlN:Co 樹枝狀結構,AlN:Co 分級結構和AlN:Mg納米線,不同形貌、尺寸的AlN:Mg納米棒,以及GaN:Mn納米顆粒和花瓣狀納米結構。對這些摻雜氮化物的生長機制、光學性質與振動光譜進行了系統的研究,分析了它們的磁性來源。在AlN:Mg 和 AlN:Co 納米線的原位角散高壓同步輻射X射線衍射研究中發現,它們在 17.7GPa和15.0GPa 時分別發生了纖鋅礦到岩鹽礦的結構相變。通過對它們的原位高壓研究總結了摻雜對其相變壓力的影響規律。進行了稀土金屬氮化物(ScN、YN)的製備與高壓物性研究。利用直流電弧電漿方法製備出立方體或長方體的單晶ScN和多晶YN。ScN和YN的原位的原位高壓同步輻射X射線衍射研究表明,它們都具有較高的體模量,在實驗最高壓力(53.5GPa)範圍內均保持初始的晶體結構,沒有發現結構相變發生。通過項目的實施,在稀土摻雜III族納米氮化物稀磁半導體的製備與高壓物性方面獲得了創新成果。較好的完成了項目的研究任務。

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