科研兼中式多功能磁控濺射鍍膜系統是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2013年5月31日啟用。
基本介紹
- 中文名：科研兼中式多功能磁控濺射鍍膜系統
- 產地：中國
- 學科領域：物理學、化學、材料科學、電子與通信技術
- 啟用日期：2013年5月31日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
1、極限真空：濺射室(經烘烤)真空度極限≤6.7×10-5Pa。 2、系統漏率：停泵關機 12小時後，濺射室真空度可達≤5Pa。 3/膜厚均性性Φ100mm基片上±5%。 4/系統採用PLC+工控機控制系統，所有工作過程包括抽氣過程、放氣過程、真空壓力控制系統、質量流量器控制氣體流量、磁控靶擋板打開關閉、樣品擋板打開關閉、射頻電源和直流電源的開關和功率參數調整、鍍膜時間控制等均採用全自動控制系統。
主要功能
磁控濺射鍍膜。
