磁控濺射A2D沉積

磁控濺射A2D沉積是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的物理性能測試儀器，於2011年12月31日啟用。

基本介紹

• 中文名：磁控濺射A2D沉積
• 產地：中國
• 學科領域：化學、材料科學、冶金工程技術、物理學
• 啟用日期：2011年12月31日
• 所屬類別：物理性能測試儀器 > 力學性能測試儀器 > 材料試驗機

技術指標

沉積溫度室溫-400攝氏度。

主要功能

用於多種薄膜的沉積，包括金屬、合金、陶瓷、複合膜等，用途廣泛。