磁控濺射鍍膜儀是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的工藝試驗儀器，於2006年12月30日啟用。
基本介紹
- 中文名：磁控濺射鍍膜儀
- 產地：美國
- 學科領域：化學、材料科學、冶金工程技術、物理學
- 啟用日期：2006年12月30日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
1、主真空室的本底真空優於2×10－8Torr；2、四英寸的基片範圍內薄膜厚度均勻性優於±2％；3、可以濺射磁性和非磁性金屬、進行直流和射頻濺射；4、基片可以加熱（800℃）、冷卻（水冷）；5、全自動控制；6、18英寸主濺射室；7、高真空泵抽系統；8、超高真空磁控濺射靶；直流/射頻電源；9、4英寸樣品台；10、PhaseII-J控制系統。
主要功能
納米磁性薄膜製備設備，可以製備納米磁性薄膜，能加熱，共五個靶位。
