磁控濺射測試系統

磁控濺射測試系統是一種用於化學領域的分析儀器，於2004年03月24日啟用。

基本介紹

• 中文名：磁控濺射測試系統
• 產地：中國
• 學科領域：化學
• 啟用日期：2004年03月24日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 透射電鏡

技術指標

直流濺射功率最高200W,射頻濺射功率最高300W。

主要功能

採用金屬或非金屬靶材進行物相沉積。