硒化鋅研磨

基本介紹

• 中文名：硒化鋅研磨
• 特點：散射損失極低
• 方法：化學氣相沉積(CVD)方法合成
• 屬性：多晶材料

硒化鋅材料

硒化鋅晶體：一種黃色透明的多晶材料，由化學氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質吸收, 散射損失極低。由於對10.6μm波長光的吸收很小, 因此成為製作高功率CO2雷射器系統中光學器件的首選材料。

硒化鋅晶體用來製作全反射鏡，半反射鏡，擴束鏡，平場透鏡，中紅外鏡片，遠紅外10.6Um/CO2大小功率雷射器上各種平凸透鏡，凸凹月牙切割透鏡，鍍金反射鏡，圓偏振鏡，擴束鏡，平場透鏡等.廣泛套用於雷射,醫學，天文學和紅外夜視等領域中。

硒化鋅的研磨和拋光

為達到光學要求，硒化鋅的表面要經過研磨和拋光等一系列處理。 硒化鋅比普通光學玻璃軟，很容易被刮傷，因此對研磨耗材的要求極高，既要達到表面光潔度的要求，又要避免造成劃傷。

目前硒化鋅晶體的研磨工藝中，主要有氧化鋁微粉的研磨工藝和多晶金剛石微粉的研磨工藝兩種為主，一般企業都是用。

工藝1：氧化鋁微粉3um—1um—多晶金剛石微粉0.25um

工藝2：多晶金剛石微粉：3um— 1um — 0.25um

以上兩種工藝的區別：氧化鋁工藝相對成本略低，但多晶金剛石工藝也逐漸被越來越多的企業採用，如美國的二六集團，蘇州旭宏等光學晶體企業。